3Dレーザー処理装置 Ultratech LSA 201

LSA201環境制御レーザー スパイク アニール システム VeecoのLSA201レーザー スパイク アニール（LSA）システムのアーキテクチャはLSA101と同じですが、特許取得済みのマイクロ チャンバー設計を採用しています。これにより、走査型レーザー システムでウエハ全体の環境制御が可能になります。マイクロ チャンバーは、真空負荷ロックを使用する必要がないという点で、独自の機能です。システムは、フォーミング ガスを含む不活性ガスの混合に対応しています。LSA201は、高誘電率金属のゲート接合の活性化やニッケル シリサイド形成などのアプリケーションに照準を合わせています。LSA201は、インターフェース エンジニアリングや材料修正などの、環境制御が重要な20nm以下のプロセスに最適です。 主な特長： 長い波長、偏光角、P偏光により、最適なダイ内均一性を実現 閉ループ温度フィードバック制御により、厳密な温度管理を維持 プレーナーとFinFETデバイスの両方を処理するのに最適な、レイアウト独立設計 滞留時間が柔軟な局所応力場により、低ストレス処理を可能にし、ウエハの破損を減らす