Edwards/エドワーズの容積式真空発生器

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ダイヤフラム式真空ポンプ
ダイヤフラム式真空ポンプ
D-LAB

到達真空度 : 8, 100 mbar
流量: 2, 0.6, 1.2 m³/h

... ダイヤフラムとKalrez® バルブを備えたD-LABのメンブレンポンプは、化学または製薬研究室のユーザーに幅広い選択肢を提供します。ヘッドが1つの到達真空100 mbarのポンプは、乾燥装置との併用またはウォータジェットポンプの代替として適しています。ヘッドが2つの到達真空8 mbarの到達真空ポンプはロータリエバポレーター、ガス移送などさまざまな中真空用途に適しています。

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EDWARDS/エドワーズ
スクリュー真空ポンプ
スクリュー真空ポンプ
GXS series

到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 4, 7, 12, 6 l/min
出力: 3.8 kW - 40 kW

新しいGXSドライポンプは、真空性能が次世代レベルに進化しました。独自のスクリュー技術と進化した温度制御、および長いサービス間隔を実現する世界トップクラスの効率性を誇る駆動を備え、クラス最高の排気速度と長期にわたり維持費を低く抑えるメリットを享受できます。 進化したシャフトシール技術 GXS内に搭載された画期的な技術がギヤボックスを汚染から保護し、真空スペースへのオイルの侵入を防ぎます。非接触式の長寿命シールにより、きわめて効果的な密封が可能となり、確実なポンプ性能を実現します。 ...

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EDWARDS/エドワーズ
スクリュー真空ポンプ
スクリュー真空ポンプ
GV series

到達真空度 : 0.01, 0.03 mbar
流量: 5, 8 l/min
出力: 2.6 kW - 6.7 kW

... したパフォーマンスを継続的に提供します。高真空で安定した能力により、ドライポンプの導入にあたり費用対効果が非常に高い製品です。 GV80 - 堅牢で信頼性が高い GV80真空ポンプは連続運用が可能で、大量の凝縮性蒸気をハンドリングすることができます。クリーンで静かなポンプと最低限に抑えられたサービスダウンタイムにより、GV80は安定した出力と再現性可能なポンプ性能を提供します。 GV110 ...

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EDWARDS/エドワーズ
回転翼真空ポンプ
回転翼真空ポンプ
XDS series

到達真空度 : 0.01, 0.05 mbar
流量: 240 us gal/h
出力: 520 W

... ポンプを管理し、世界規模の性能を提供するスマートドライブ技術が組み込まれています。 粗加工圧力でのピーク電力要件が低減され、粗加工速度が連続的に向上します。これらのポンプにより、ユーザーは性能エンベロープに対処し、粗加工性能または大容量チャンバの真空引き能力が重要な特殊用途にも対応できます。 強化されたバージョンでは、初回ポンプダウン時のピーク電力要件が最大20%低減されます。つまり、大容量チャンバをポンプダウンしても性能が低下することはありません。 これらの粗加工圧力では最大25% ...

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EDWARDS/エドワーズ
スクロール真空ポンプ
スクロール真空ポンプ
nXDS series

到達真空度 : 0.03, 0.07, 0.02 mbar
流量: 110, 240, 145, 220 us gal/h
出力: 260, 280, 300 W

... になります。 nXDSは、スクロール真空技術を次のレベルに引き上げます。 性能の向上、卓越したポンプ性能、静かな運転、および整備間隔の延長により、nXDSは究極のドライな選択となります! nXDSを選択する理由は何ですか? 使用中の静音性:低騒音レベル52 dB(A)のnXDSは、作業環境の改善と環境への影響の低減を実現します。 操作が簡単:インテリジェントで使いやすいコントロール 汚染がなく、廃棄するオイルもありません:ポンプは潤滑剤と汚染のない真空用に密封されています メンテナンス ...

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EDWARDS/エドワーズ
ダイヤフラム式真空ポンプ
ダイヤフラム式真空ポンプ
XDD1

到達真空度 : 0 mbar - 2 mbar
流量: 1.4, 1.2 m³/h
出力: 80, 64 W

コンパクトで高効率のXDD1ダイヤフラムポンプは、クリーンで高真空用途での小型複合ターボ分子ポンプをバッキングするために使用されますが、独立したベンチトップ装置としても設計されています。XDD1を使って70 ls-1ターボ分子ポンプをバッキングした場合、典型的な到達圧力は5 x 10-8 mbar以下です。

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EDWARDS/エドワーズ
スクリュー真空ポンプ
スクリュー真空ポンプ
IDX series

到達真空度 : 0.05 mbar
流量: 900 m³/h - 1,300 m³/h
出力: 30, 22 kW

... Edwards IDX真空ポンプはランニングコストを削減し、廃液をなくし、製品の品質を大幅に改善して、多くの真空引き、コーティングおよび冶金プロセスに理想的な製品です。 大型チャンバー用の大容量排気 IDXは、低圧下においても大量のガスを排気可能な排気性能を持ち短時間でターゲット圧力に到達することができます。 改善されたパフォーマンスおよび信頼性 IDXは安定した、反復可能なパフォーマンスのために堅牢な産業用機構を搭載しています。低圧でハイスループットを管理しながら、大気から到達真空まで迅速に排気 ...

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EDWARDS/エドワーズ
回転爪真空ポンプ
回転爪真空ポンプ
EDC series

到達真空度 : 50, 140, 200 mbar
流量: 65 m³/h - 1,140 m³/h
出力: 1.8 kW - 18.5 kW

... 効率的なモジュール式設計で、製品寿命を保証します。ポンプ内部はアクセスが簡単でクリーニングが可能です。ギヤボックスにアクセスせず、ポンプのタイミングを調整する必要はありません。 パワフルで、フットプリントが小さいコンパクトなマシン 比類のない到達真空レベルと市場をリードする排気速度がコンパクトなキャノピーによりもたらされ、限られたスペースでもEDCを簡単に設置できます。 卓越したグローバルサービスサポート Edwardsの市場トップクラスの保証とサービスサポートネットワークは180カ国に ...

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EDWARDS/エドワーズ
スクリュー真空ポンプ
スクリュー真空ポンプ
CXS series

到達真空度 : 0.02 mbar
流量: 160, 250, 230, 132 m³/h
出力: 3.6, 7.5, 3.8 kW

アセテートからキシレン(そしてその間のすべて)まで、Edwards CXSケミカルドライポンプには、世界中に設置されている何千ものケミカル真空システムのために開発された最先端のインテリジェンスと圧縮技術が採用され、パフォーマンスの向上に貢献しています。 画期的なスクリュー技術による排気の最適化 CXSのテーパースクリュー技術により、どんな吸込圧力でも熱安定性が改善され、ポンプ機能が最適化されます。また、耐腐食性に優れ、丈夫な液体および固体処理機能により、苛酷なケミカルプロセスにも ...

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EDWARDS/エドワーズ
スクリュー真空ポンプ
スクリュー真空ポンプ
CDX

到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 900 m³/h
出力: 30, 17.1 kW

... ポンプ容量を備えており、反復可能性と信頼性が不可欠な大規模プロセスに最適です。 ハイスループットプロセス 重要な用途で作業をするには、信頼性の高いポンプが必要です。CDXポンプは、プロセスの不具合に対する許容性が高く、大気圧から到達真空圧まで、継続的に確実に性能を発揮する、堅牢で高性能な機械です。 過酷な環境とプロセスのための設計 Edwardsの標準間接冷却により、熱衝撃や腐食からの保護など、卓越した温度制御を保証します。このポンプは優れた液体処理能力を備え、粉塵や微粒子 ...

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