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動作原理
レーザ光が分散試料を透過する際に生じる散乱光を検出器で計測し、広い角度範囲の散乱データをMieおよびFraunhoferモデルで解析して粒径分布を算出します。
光学系
10 nm〜3.5 mmをカバーする単一光学経路（赤色・青色光源）と対数間隔の検出器アレイ、自動アライメント により堅牢な散乱データを取得します。< ...
Malvern Panalytical
... のみ) 動作 マスターサイ ザー 3000+ Labは、 レーザ 回折技術を使用して、粒子径を測定します。 レーザ光が、分散した粒子サンプルの間を通過する時に散乱された光の強度を測定して、 粒度測定を行います。その後、このデータを解析し、その散乱パターンで生じた粒子径を計算します。 装置は主に以下の３つで構成されています。 光学ベンチ： ...
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... ダイナミックイメージングから得られた形状データと レーザ 回折から得られた 粒度分布を組み合わせて、材料の動きとその理由をより深く理解できます。 測定手順開発の最適化 レーザ 回折法の開発中に分散を確認し、他のプロジェクトの時間を節約できます。 製品品質の向上 大きな粒子の画像処理の分解能と レーザ回析の広いダイナミックレンジを組み合わせることで、材料の特性を完全に信頼できるものにします。 分析法移管のスピードアップ ...
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... バルク乾燥粉体サンプルのルーチン 粒度分布解析 Aero M乾式分散ユニット により、マスターサイ ザー3000E 粒度分布測定器を使用してバルク乾燥粉体サンプルの測定ができます。 シンプルな設計になっているため使いやすくメンテナンスが容易なので、日常的な生産や品質管理作業の一部として堅牢で再現性の高い 粒度分布測定を実現します。 Aero ...
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... 乾式プロセス用インシテックは、 レーザ 回折技術を用いて 0.1 ～ 2,500 μm の 粒度範囲の粒子を測定します。 あらゆる乾式粒子プロセスに実践的に適合するようにシステムを構成でき、様々な乾式プロセスライン中の 粒度分布を24時間リアルタイム測定が可能です。 粉塵エリア 防爆エリア 可動用途が必要な製造プロセス 磨耗性のある粉体を扱うプロセス 製薬・医薬品製造プロセス インシテック ...
Malvern Panalytical
... プロセス用インシテックは、 レーザ 回折技術を用いて 0.1 ～ 2,500 μm の 粒度範囲の粒子を測定します。 あらゆる湿式粒子プロセスに実践的に適合するようにシステムを構成でき、様々な湿式プロセスライン中の 粒度分布を24時間リアルタイム測定が可能です。 防爆エリア 全自動濃度制御 製薬・医薬品製造プロセス カスタマイズ パートナーソリューション 湿式プロセス用インシテックは、バッチまたは連続湿式プロセスで、完全自動のリアルタイム、または手動アットライン によ る粒 度分布測定を実現します。 ...
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... られたオンライン・インライン スプ レー用 粒度分布測定装置は、 レーザ 回折技術を用いて0.1～2,500μmの液滴や乾燥粉体の 粒度を測定します。 高濃度のスプ レーやエアロゾルも測定することが可能で、24時間連続リアルタイムモニタリングが可能です。 オンライン・インライン 粒度分布測定機インシテックは、様々なオプションでフレキシブルにプロセスへの設置が可能です。 カスタマイズ可能な設計 パウダーストリーム 製薬・医薬品製造プロセス 概要 オンライン・インライン 粒度分布測定機インシテックは、製造現場 ...
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