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SIEMENS/シーメンスのプロセスソフトウェア
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... 先進のプロセスノードでの設計には、複雑さを増す設計を管理するための新しい配置配線パラダイムが必要です。Aprisaは、最新のSoC向けの詳細配線中心のフィジカル設計プラットフォームです。 複雑なSoC設計のための配置配線テクノロジ Aprisaは、複雑なデジタルIC設計のためのトップレベルの階層設計とブロックレベルのインプリメンテーションのための完全な機能を提供します。詳細配線中心のアーキテクチャと階層型データベースにより、高速な設計終結と最適な品質の結果を競争力のあるランタイムで実現します。 ...
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... ファウンドリ・サインオフ・ツール キャリバーnmDRCテクノロジーは、すべての主要ファウンドリでプロセス定義に社内使用されており、その結果、プロセス要件を定義するルールファイルとルールデッキが作成され、他社のDRCツールの適格性のベンチマークとなっています。 絶え間ない革新 キャリバーnmDRCソリューションは、方程式ベースのDRCやその他の高度な構文のような革新的な機能により、複雑な新しいチェック要件の実装を、基礎となるエンジンの変更を必要とせずに実現します。 業界をリードする性能とキャパシティ Calibre ...
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... アライメント/接続性チェック Calibre 3DSTACKツールは、Calibreのダイレベルのサインオフ検証を拡張し、幅広い2.5Dおよび3Dスタック・ダイ設計の完全なサインオフ検証を可能にします。設計者は、既存のツール・フローとデータ・フォーマットを使用して、あらゆるプロセス・ノードで完全なマルチ・ダイ・システムのサインオフDRCとLVSチェックを実行できます。 マルチダイ/ダイ・オン・パッケージ/インターポーザのアライメント・チェック キャリバー3DSTACKツールにより、設計者はマルチダイ・パッケージ・アセンブリ ...
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... 要求事項のギャップを埋めることで、従来型の検証(ディレクテッド・テスト)と高度な検証の両方の生産性と有効性を向上させます。 ReqTracer 設計要件が満たされているかどうかを判断するには、仕様からRTL記述、そして検証結果までを追跡する必要があります。ReqTracerを使用すれば、要件駆動型のプロジェクト開発プロセスを容易に実装し、追跡することができます。 ...
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... ポストレイアウト回路では、新しいAFS eXTremeテクノロジが1億エレメントを超える容量を提供し、ポストレイアウト・シミュレータの3倍以上の速度を実現します。 ナノメートル精度の高速回路シミュレーション 主要ファウンドリによるFinFETプロセスの認定を取得 > 従来のSPICEより5倍高速 > パラレル SPICE より 2 倍高速 AFS eXTreme テクノロジーを追加コストなしで利用可能 ...
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... 提供します。Calibreのすべての設計および製造フローにおいて、パターン・マッチングの速度と精度の恩恵を受けることができます。 Calibreプラットフォームに統合 Calibreパターンマッチングツールは、Calibreプラットフォーム内で動作し、パターンベースの設計検証および製造フローを強力に統合します。パターンは、複雑なレイアウト記述を簡素化し、マルチオペレーションテキストベースの設計ルールチェックを補完します。 アナログ/デジタル・フローの設計者支援 多層デバイスの対称性を必要とする ...
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... マルチパターン・デコンポジション、検証、エラー・デバッグのための業界をリードする包括的なテクノロジ。すべての主要なファウンドリ・メソドロジとプロセスをサポートし、Calibreサインオフ品質のマルチパターン・レイアウトを保証する独自のツール統合とデバッグ機能を提供します。 すべてのMP設計メソドロジに対応するサインオフ・ソリューション Calibreマルチパターニング・ツールは、あらゆるマルチパターニング設計メソドロジに対応したサインオフ品質のソリューションを提供します。 強化されたデバッグ ...
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... ツールは、検証プロセスからコストのかかる時間と労力を排除し、また、すべてのDRC実行においてすべての権利放棄情報の正確な処理を保証します。 Calibre nmDRC実行中の権利放棄の自動除去 Calibre Auto-Waiversツールは、真のデザイン・ルール・エラーを誤って放棄するリスクなしに、デバッグ時間を大幅に短縮します。Calibre Auto-Waiversソリューションは、ユーザに大きな負担をかけることなく、セル階層をまたがる放棄を正確に考慮します。 設計とプロセスを横断した放棄解析 ...
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... キャリバー マスクプロセス補正ファミリーは、ルールベースおよびモデルベースの製品で、先進的なフォトマスク製造において、システマティックなマスクリソグラフィとプロセスエラーの原因を補正し、マスクのクリティカルディメンジョンシグネチャーが仕様内にあることを保証するために使用されます。 マルチビームマスクリソグラフィにおけるマスクプロセス補正の検証 この論文では、既存の実績あるマスクプロセスと新しいMBMWシステムを組み合わせたMPCキャリブレーションと検証のフルサイクルを紹介します。 キャリバー ...
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... Tessent IJTAGは、多数のIEEE 1687準拠IPブロックを統合された階層型ネットワークに接続し、単一のトップレベルアクセスポイントから各ブロックにコマンドを通信するプロセスを簡素化します。 主な機能 IEEE 1687規格の自動化サポート Tessent IJTAG製品は、IEEE 1687規格を実装するための包括的な自動化をサポートし、プラグアンドプレイでIPテストと計測器の統合を実現します。 IJTAG環境の構築 ゲートレベルまたはRTLネットリストからIJTAG ...
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