SIEMENS/シーメンスのプロセスソフトウェア

... 、最適な性能、消費電力、面積（PPA）を保証します。 アプリサSoC設計 ソフトウェアのメリット アプリサはすぐに最適なPPAを提供します。これにより、フィジカル設計者は配置配線 フローの各ステップでの工数を削減し、市場投入までの時間を短縮できます。 迅速なデザイン完了 統一されたアーキテクチャと共通の解析エンジンにより、インプリメンテーションステップ間およびサインオフツールとのタイミングとDRCの相関性が確保され、 フローの繰り返しとECOの回数が大幅に削減されます。 設計者のタスクを支援する ...

... ファウンドリ・サインオフ・ツール キャリバーnmDRCテクノロジーは、すべての主要ファウンドリで プロセス定義に社内使用されており、その結果、 プロ セス要件を定義するルールファイルとルールデッキが作成され、他社のDRCツールの適格性のベンチマークとなっています。 絶え間ない革新 キャリバーnmDRCソリューションは、方程式ベースのDRCやその他の高度な構文のような革新的な機能により、複雑な新しいチェック要件の実装を、基礎となるエンジンの変更を必要と せずに実現します。 業界をリードする性能とキャパシティ Calibre ...

... アライメント/接続性チェック Calibre 3DSTACKツールは、Calibreのダイレベルのサインオフ検証を拡張し、幅広い2.5Dおよび3Dスタック・ダイ設計の完全なサインオフ検証を可能にします。設計者は、既存のツール・ フローとデータ・フォーマットを使用して、あらゆる プロセス・ノードで完全なマルチ・ダイ・システムのサインオフDRCとLVSチェックを実行できます。 マルチダイ/ダイ・オン・パッケージ/インターポーザのアライメント・チェック キャリバー3DSTACKツールにより、設計者はマルチダイ・パッケージ・アセンブリ ...

... たされているか どうかを判断することは、仕様からRTL記述、そして検証結果までを追跡できることを意味します。ReqTracerを使用すれば、要件駆動型の プロジェクト開発 プロセスを容易に実装し、追跡することができます。 プロジェクト管理 ベストプラクティス ReqTracer は、要件主導型 プロジェクト開発 プロセスの実装と追跡を支援し、継続的な プロセス改善を促進する対話型ツールを提供します。 要件のトレーサビリティ 自動トラッキング ReqTracer ...

... ポストレイアウト回路では、新しいAFS eXTremeテクノロジが1億エレメントを超える容量を提供し、ポストレイアウト・シミュレータの3倍以上の速度を実現します。 ナノメートル精度の高速回路シミュレーション 主要ファウンドリによるFinFET プロセスの認定を取得 > 従来のSPICEより5倍高速 > パラレル SPICE より 2 倍高速 AFS eXTreme テクノロジーを追加コストなしで利用可能 ...

... 提供します。Calibreのすべての設計および製造 フローにおいて、パターン・マッチングの速度と精度の恩恵を受けることができます。 Calibreプラットフォームに統合 Calibreパターンマッチングツールは、Calibreプラットフォーム内で動作し、パターンベースの設計検証および製造 フローを強力に統合します。パターンは、複雑なレイアウト記述を簡素化し、マルチオペレーションテキストベースの設計ルールチェックを補完します。 アナログ/デジタル・ フローの設計者支援 多層デバイスの対称性を必要とする ...

... マルチパターン・デコンポジション、検証、エラー・デバッグのための業界をリードする包括的なテクノロジ。すべての主要なファウンドリ・メソドロジと プロセスをサポートし、Calibreサインオフ品質のマルチパターン・レイアウトを保証する独自のツール統合とデバッグ機能を提供します。 すべてのMP設計メソドロジに対応するサインオフ・ソリューション Calibreマルチパターニング・ツールは、あらゆるマルチパターニング設計メソドロジに対応したサインオフ品質のソリューションを提供します。 強化されたデバッグ ...

... 。このツールは、検証 プロセスからコストのかかる時間と労力を排除し、またDRC実行のたびにすべての権利放棄情報を正確に処理します。 Calibre nmDRC実行中の権利放棄の自動除去 Calibre Auto-Waiversツールは、真のデザイン・ルール・エラーを誤って放棄するリスクなしに、デバッグ時間を大幅に短縮します。Calibre Auto-Waiversソリューションは、ユーザに大きな負担をかけることなく、セル階層をまたがる放棄を正確に考慮します。 設計と プロセスを横断した放棄解析の自動化 ...

... の新たな基準を打ち立てます。 マルチビームマスクリソグラフィの検証 マスク プロセス補正（MPC）は、14nm以降の先端技術ノードにおける電子ビームマスク製造に必要なマスクデータ準備（MDP）のステッ プとして確立されています。MPCでは通常、電子散乱モデルを用いて電子ビーム露光を表現し、 プロセスモデルを用いて現像とエッチングの プロセス効果を表現します。これらのモデルを用いて、レイアウトフィーチャーのエッジ位置を繰り返しシミュレーションし、エッジセグメントを移動させて、完成したマスクのエッジ位置精度 ...

... Tessent IJTAGは、IEEE1687に準拠したIP ブロックを階層型ネットワークに接続する プロセスを簡素化し、単一のトップレベルアク セスポイントから各 ブロックへのコマンド通信を可能にします。 なぜTessent IJTAGなのか？ Tessent IJTAG製品は、IEEE 1687規格を実装するための包括的な自動化をサポートし、プラグアンドプレイでIPテストと計測器の統合を実現します。 IJTAG環境の構築 ゲートレベルまたはRTLネットリストからIJTAG ...