- 空圧・油圧機器 >
- ポンプ >
- 化学プロセス用真空ポンプ >
- VACUUBRAND
VACUUBRANDの化学プロセス用真空ポンプ
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
到達真空度 : 100 mbar
流量: 0.7, 0.85 m³/h
出力: 0.04 kW
... スペースが最小限で済む メンテナンスフリーの駆動システムと、実証済みの長寿命ダイアフラム 化学分野におけるダイアフラム ポンプの稼働状況 真空ろ過は、 化学、微生物学、廃水処理、その他の分析 プロセスにおける試料調製で最も一般的に用いられる手法の一つです。 ME 1C ダイアフラム ポンプは、コンパクトで高性能、かつ使いやすいソリューションを提供し、単回ろ過に最適です。大成功を収めたオイルフリーダイアフラム ポンプ ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 3, 1.5 mbar
流量: 14.3 m³/h
出力: 530 W
... アプリケーションを備えた 真空コントローラー「VACUU·SELECT」は、実験室での作業を簡素化します 自動沸点検出と 真空度の調整により、 プロセス時間を短縮 大量の高沸点溶媒の処理においても、高い 真空度要件を満たします ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます 低消費電力と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています 稼働中のVARIO® 化学用 ポンプユニット PC ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 1.5, 0.6 mbar
流量: 2.8 m³/h
出力: 0.53 kW
... VACUU·SELECT 真空コントローラーは、実験室での作業を簡素化します 自動沸点検出と 真空度の自動調整により、 プロセス時間を短縮 低温下でも高沸点溶媒の蒸発に最適 ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます 低エネルギー消費と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています VARIO® ケミストリー用 ポンプユニットの稼働風景 PC ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 9 m³/h
出力: 0.7 kW
... ドライスクリュー ポンプ「VACUU·PURE® 10C」は、10-3 mbarの圧力範囲において、オイルフリー 真空技術の利点を確実に発揮します。この新しい 真空 ポンプは、ユーザーにとって重要な3つの利点、すなわち「100%オイルフリー」「耐薬品性」「摩耗部品なし」を兼ね備えています。 VACUU·PURE 10Cは、クリーン プロセスや高純度製品の製造に最適です。このスクリュー ポンプは、10⁻³ ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 5.9, 6.9 m³/h
出力: 0.3 kW
... 低減されます ロータリーベーン ポンプのみを使用する場合と比較して、オイル交換の頻度が通常90%以上削減されます 最も経済的なソリューション:実際の運用では、コールドトラップが不要になる場合が多々あります 伸縮式設計によりメンテナンスが容易 Chemistry-HYBRID ポンプの稼働状況 RC 6 Chemistry-HYBRID ポンプは、2段ロータリーベーン ポンプと2段ケミストリーダイヤフラム ポンプを組み合わせたもので、耐食性を最適化しています。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 2.1, 2.4 m³/h
出力: 0.18 kW
... 極めて静粛で振動も極めて少ない 複数のアプリケーションを並列運転する場合でも強力な性能を発揮 低 真空度でも高い性能を発揮 優れた耐薬品性 ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム 極めて静粛で振動も極めて少ない 複数のアプリケーションを並行して稼働させても十分なパワーを発揮 低 真空度でも高い性能を発揮 優れた耐薬品性 ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.4 m³/h
出力: 0.18 kW
... ガスや蒸気を使用し、深い 真空レベルを必要としない用途に最適です。水を消費しないため、汚染された廃水が発生しません。代表的な用途は、ろ過や低沸点の溶剤の濃縮です。ME 4C NTは、高流量を必要とする プロセスにお勧めです。インレットセパレーターと凝縮水キャッチポットを備えた 化学 真空システムME 4C NT +2AKは、過酷な用途や ポンプ排気時の凝縮水回収に最適です。 性能の特徴 優れた耐薬品性 低 真空レベルでも高性能 非常に静か 低振動 長いダイアフラム寿命、メンテナンスフリーの駆動システム ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.42 m³/h
出力: 0.18 kW
... した耐薬品性と優れた耐蒸気性 低 真空度でも高い性能を発揮 コンパクトな設計 極めて静粛で振動も極めて少ない 凝縮液を回収するための吸込口および吐出口に設置されたセパレーター 稼働中の 化学用 真空システム この 化学用 真空システムは、高い排気速度と70 mbarまでの低い極限 真空度という利点を兼ね備えています。そのため、大量のガスや蒸気の排気・吸引に最適です。排気口での溶媒蒸気の凝縮が不要な場合、 化学、生物学、製薬分野の研究室で幅広く活用できます。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 7.1, 7.8 m³/h
出力: 0.25 kW
... 卓越した耐薬品性と優れた耐蒸気性 低 真空下でも極めて高い性能を発揮 コンパクトな設計 極めて静粛で振動も極めて少ない ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム 稼働中のケミストリー・ダイアフラム ポンプ ケミストリー仕様のダイアフラム ポンプは、腐食性ガスや蒸気を連続的かつオイルフリーで排気するための優れたソリューションです。単段構造により、高い排気速度と70 mbarまでの低い極限 真空度という有利な組み合わせを実現しています。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 7.1, 7.8 m³/h
出力: 0.3 kW
... ケミストリー設計のダイアフラム ポンプは、腐食性ガスや蒸気をオイルフリーで連続的に送液する優れたソリューションです。1段式構造により、高速 ポンピングと70mbarまでの低極限 真空という有利な組み合わせが得られます。 ポンピング媒体と接触する主要部品はすべて、耐薬品性のフッ素樹脂製です。実績のあるPTFEサンドイッチダイアフラムが信頼性を高め、運転寿命を延ばします。この大型 ポンプは非常に高速の送液が可能です。NTシリーズは性能データがさらに向上し、優れた蒸気耐性を備えています。 性能の特徴 卓越した耐薬品性 ...
VACUUBRAND