グラフィカルユーザーインターフェースとあらかじめ定義されたアプリケーションを備えたVACUU·SELECT真空コントローラーは、実験室での作業を簡素化します
自動沸点検出と真空度の自動調整により、プロセス時間を短縮
低温下でも高沸点溶媒の蒸発に最適
ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます
低エネルギー消費と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています
VARIO® ケミストリー用ポンプユニットの稼働風景
PC 3003 VARIO select ポンプユニットは、比類のないプロセス制御を実現するために、真空度を精密に制御します。高い排気速度と高い極限真空度を備えたこのポンプは、低温条件下での高沸点溶媒を用いた要求の厳しい用途に適しています。 内蔵のVACUU·SELECTコントローラは、一般的な実験室用途をすべて網羅した、使いやすいアプリケーションベースのインターフェースを提供します。VACUU·SELECTコントローラなら、あらゆるニーズに対応可能です。 単純なプロセスには手動のセットポイント制御を使用したり、完全自動の蒸留を実行したり、シンプルなドラッグ&ドロップ編集で独自のアプリケーションを作成したりできます。溶媒の蒸発においては、VACUU·SELECTコントローラが沸点を継続的に検知し、必要に応じて真空プロセスを自動的に調整します。 さらに、VARIO制御アルゴリズムにより、モーターを必要以上に高速回転させることなく、所望の真空度を維持します。これにより、バンプ現象や発泡を防止し、ポンプの動作音を極限まで低減するとともに、メンテナンス間隔を延長します。堅牢な保護コーティングが施されたガラス製のインレットセパレーターは、粒子や液滴がポンプ内部に侵入するのを防ぎ、損傷を防止してポンプの寿命を延ばします。
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