グラフィカルユーザーインターフェースとあらかじめ定義されたアプリケーションを備えたVACUU·SELECT真空コントローラーは、実験室での作業を簡素化します。
沸点の自動検出と真空度の自動調整により、プロセス時間を短縮
低温下でも、高沸点溶媒の大量蒸発に最適
ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます
低エネルギー消費と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています
稼働中のVARIO®ケミストリー用ポンプユニット
PC 3010 NT VARIO select ポンプユニットは、比類のないプロセス制御を実現するために、真空度を精密に制御します。高い排気速度と数ミリバール単位の極限真空度を兼ね備えたこのポンプは、低温下での高沸点溶媒を用いた過酷な用途にも適しています。 このポンプは、ミニプラント、キロラボ、スケールアップ施設において、床置き型ロータリーエバポレーター、真空乾燥炉、蒸留塔、およびその他の同様の作業を支援するために広く使用されています。内蔵のVACUU·SELECTコントローラーは、一般的な実験室用途をすべて網羅した、使いやすいアプリケーションベースのインターフェースを提供します。 VACUU·SELECTコントローラがあらゆるニーズに対応します。単純なプロセスには手動のセットポイント制御を使用したり、完全自動の蒸留を実行したり、シンプルなドラッグ&ドロップ編集で独自のアプリケーションを作成したりできます。 溶媒の蒸発においては、VACUU·SELECTコントローラが沸点を継続的に検知し、必要に応じて真空プロセスを自動的に調整します。さらに、VARIO制御アルゴリズムにより、モーターを必要な速度のみに運転することで、所望の真空度を維持します。
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