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到達真空度 : 100 mbar
流量: 0.7, 0.85 m³/h
出力: 0.04 kW
... 機能的で省スペース、かつ革新的な設計に加え、上部に配置され操作しやすい電源スイッチにより、日々の実験作業において便利で迅速な操作が可能です。堅牢なPTFE製ダイヤフラムとバルブが、最適な耐薬品性を発揮します。ポンプ速度および極限 真空度を調整するためのダイヤルゲージ付き手動 真空調整バルブが、オプションとして用意されています。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 3, 1.5 mbar
流量: 14.3 m³/h
出力: 530 W
... グラフィカルユーザーインターフェースとあらかじめ定義されたアプリケーションを備えた 真空コントローラー「VACUU·SELECT」は、実験室での作業を簡素化します 自動沸点検出と 真空度の調整により、プロセス時間を短縮 大量の高沸点溶媒の処理においても、高い 真空度要件を満たします ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます 低消費電力と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています 稼働中のVARIO®化学用ポンプユニット PC ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 1.5, 0.6 mbar
流量: 2.8 m³/h
出力: 0.53 kW
... VACUU·SELECT 真空コントローラーは、実験室での作業を簡素化します 自動沸点検出と 真空度の自動調整により、プロセス時間を短縮 低温下でも高沸点溶媒の蒸発に最適 ダイアフラムの寿命が極めて長く、運用コストとメンテナンスコストを最小限に抑えます 低エネルギー消費と効率的な溶媒回収により、環境への配慮に優れています VARIO® ケミストリー用ポンプユニットの稼働風景 PC 3003 VARIO select ポンプユニットは、比類のないプロセス制御を実現するために、 真空度を精密に制御します。高 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 9 m³/h
出力: 0.7 kW
... 、10-3 mbarの圧力範囲において、オイルフリー 真空技術の利点を確実に発揮します。この新しい 真空ポンプは、ユーザーにとって重要な3つの利点、すなわち「100%オイルフリー」「耐薬品性」「摩耗部品なし」を兼ね備えています。 VACUU·PURE 10Cは、クリーンプロセスや高純度製品の製造に最適です。このスクリューポンプは、10⁻³ mbarまでの 真空範囲におけるプロセス向けに特別に設計されていますが、他の高 真空技術とは異なり、大気圧から極限 真空に至るまでの全圧力範囲で使用可能です。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 10 m³/h
出力: 0.7 kW
... オイルフリー 真空技術の利点を確実に発揮します。VACUU·PURE 10は、ユーザーにとって重要な3つの利点、すなわち「100%オイルフリー」、「摩耗なし」、「消耗部品なし」を兼ね備えています。 VACUU·PURE 10は、乾燥した炭化水素を含まない 真空を必要とするクリーンなプロセスに最適です。このスクリューポンプのスピンドルは非接触で回転するため、摩耗や損耗が生じません。 このスクリューポンプは、10⁻³ mbarまでの 真空範囲におけるプロセス向けに特別に設計されていますが、他の高 真空技術とは異なり ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 5.9, 6.9 m³/h
出力: 0.3 kW
... ポンプは、2段ロータリーベーンポンプと2段ケミストリーダイヤフラムポンプを組み合わせたもので、耐食性を最適化しています。 ダイアフラムポンプは、溶剤蒸気の分圧を凝縮点以下のレベルに維持し、酸素や腐食性ガスの濃度を大幅に低減するために、オイルリザーバーを 真空状態に保ちます。そのため、RC 6 ケミストリー・ハイブリッドポンプは、従来のロータリーベーンポンプに比べて、はるかに高い溶剤蒸気排気能力と、腐食性ガスに対する耐性を備えています。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 2.1, 2.4 m³/h
出力: 0.18 kW
... 極めて静粛で振動も極めて少ない 複数のアプリケーションを並列運転する場合でも強力な性能を発揮 低 真空度でも高い性能を発揮 優れた耐薬品性 ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム 極めて静粛で振動も極めて少ない 複数のアプリケーションを並行して稼働させても十分なパワーを発揮 低 真空度でも高い性能を発揮 優れた耐薬品性 ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.4 m³/h
出力: 0.18 kW
... 化学用1段式ダイヤフラムポンプは、腐食性のガスや蒸気を使用し、深い 真空レベルを必要としない用途に最適です。水を消費しないため、汚染された廃水が 発生しません。代表的な用途は、ろ過や低沸点の溶剤の濃縮です。ME 4C NTは、高流量を必要とするプロセスにお勧めです。インレットセパレーターと凝縮水キャッチポットを備えた化学 真空システムME 4C NT +2AKは、過酷な用途やポンプ排気時の凝縮水回収に最適です。 性能の特徴 優れた耐薬品性 低 真空レベルでも高性能 非常に静か 低振動 長いダイアフラム寿命、メンテナンスフリー ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.42 m³/h
出力: 0.18 kW
... した耐薬品性と優れた耐蒸気性 低 真空度でも高い性能を発揮 コンパクトな設計 極めて静粛で振動も極めて少ない 凝縮液を回収するための吸込口および吐出口に設置されたセパレーター 稼働中の化学用 真空システム この化学用 真空システムは、高い排気速度と70 mbarまでの低い極限 真空度という利点を兼ね備えています。そのため、大量のガスや蒸気の排気・吸引に最適です。排気口での溶媒蒸気の凝縮が不要な場合、化学、生物学、製薬分野の研究室で幅広く活用できます。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 7.1, 7.8 m³/h
出力: 0.25 kW
... 卓越した耐薬品性と優れた耐蒸気性 低 真空下でも極めて高い性能を発揮 コンパクトな設計 極めて静粛で振動も極めて少ない ダイアフラムの寿命が長く、メンテナンスフリーの駆動システム 稼働中のケミストリー・ダイアフラムポンプ ケミストリー仕様のダイアフラムポンプは、腐食性ガスや蒸気を連続的かつオイルフリーで排気するための優れたソリューションです。単段構造により、高い排気速度と70 mbarまでの低い極限 真空度という有利な組み合わせを実現しています。 ...
VACUUBRAND