リトグラフシステム

... スポット型電子ビーム描画装置JBX-8100FSは、従来装置よりもオペレーション中や描画中の無駄時間を極力省くことでスループットを向上させ、省スペース、低消費電力を実現した装置です。 特長 省スペース 標準の設置面積は4.9m (W) × 3.7m (D) × 2.6m (H) であり、従来機種よりも省スペース設計となっています。 低消費電力 通常時の消費電力は約3kVAであり、従来機種よりも約1/3に削減しました。 高スループット 高分解能描画モードと高速描画モードの2つのモードを有し、極微細加工から少・中量生産にまで対応しています。また、描画中の不要な時間を短縮し、更に最大走査スピードを従来比1.25～2.5倍の125MHz ...

... JetStep W2300システムは、すべての主要な高度なパッケージングプロセスに対応するように設計されています。 製品概要 JetStep W2300システムは、アドバンスド・パッケージングの課題に正面から取り組むために特別に設計されています。半導体先端パッケージングプロセスにおいて、解像度、オーバーレイ、その他多くの技術仕様がより厳しく、より高度になるにつれ、リソグラフィー要件を満たすことが困難になってきています。本システムは、特殊な大型フィールド光学系とシステムの主要な利点により、解像度とオーバーレイを制限することなく最大のスループットを提供します。 アプリケーション - ...

... AP200/300プロジェクション ステッパー AP200/300リソグラフィー システム ファミリーは、カスタマイズ可能なUnity Platform™をベースにしており、優れた重ね合わせ、解像度、側壁プロファイルの性能と、高度に自動化されたコスト効率のよい製造を実現します。これらのシステムは特に、銅柱、ファンアウト、スルー シリコン ビア（TSV）、およびシリコン インターポーザー アプリケーションに最適です。さらに、プラットフォームには多数のアプリケーション固有の製品機能が組み込まれており、世界中の量産現場で利用されているVeecoの受賞歴のあるデュアルサイド ...

... ステップ＆リピート式ナノインプリントリソグラフィ装置 ステップ＆リピート式ナノインプリントリソグラフィによる効率的なマスター作成 EVG770 NTは、ステップ＆リピート（S&R）ナノインプリントリソグラフィのための汎用プラットフォームで、基板上の複雑な構造を効率的にマスター化したり、直接パターニングしたりすることができます。この方法では、最大30cm²までの小さなダイからテンプレートを均一に複製することができます。S&Rプロセスでは、そのダイを第2世代パネルサイズの基板までの大面積に複数回複製することができます。S&Rインプリントは、ダイヤモンドターニングや直描法と組み合わせて、ウェハレベルの光学部品製造やEVGのSmartNILプロセスに必要な原盤を効率的に製造するために頻繁に使用されます。このように、S&Rインプリントは、AR（拡張現実）導波路、光センサー、回折光学系、メタサーフェス、バイオメディカルデバイスなどの大量生産に欠かせない条件となっています。 EVG770 ...

... Quantum X は、屈折・回折マイクロオプティクスのマスクレス微細造形のために開発された、世界初の2光子グレイスケール・リソグラフィシステムです。 Experience the new Quantum X Nanoscribeの新生Quantum X システムは、産業分野での生産プロセスにおけるプロトタイプやマスタの微細造形向けに設計されています。このマスクレス・リソグラフィシステムは、自由形状でのマイクロオプティクス、マイクロレンズアレイ、マルチレベル回折オプティクスの製造を再定義する画期的な製品です。 この世界初2光子グレイスケール・リソグラフィ（2GL®）システムは、グレイスケール・リソグラフィの並外れた性能に、Nanoscribeの先駆的な2光子重合技術による高い精度と柔軟性を兼ね備えています。 Quantum ...

... K&Sのリソグラフィは、所有コストを大幅に削減する専用ソリューションを開発することにより、先進包装用リソグラフィの画期的な製品を提供します。 LITEQ 500プロジェクションステッパーの主な特長と利点 最高スループット 最大2倍優れた所有コスト レーザーベースの光源 革新的な光学設計 高速ウェハ処理 モジュラーシステムアーキテクチャ 差別化ソフトウェア ...