Máquina de deposição por CVD ULCoat

máquina de deposição por CVD
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Características

Método
por CVD

Descrição

Ao injectar um precursor no plasma pós-descarga, a ULCoat deposita camadas finas sobre a superfície tratada. O ULCoat é um sistema que vaporiza e injecta um precursor sob o bico de plasma. O ULCoat é utilizado em conjunto com um gerador OMEGA ULS. A unidade padrão foi concebida para depositar SiOx utilizando um precursor metal-orgânico. No entanto, outras receitas podem ser desenvolvidas a pedido. O laboratório de desenvolvimento de processos da AcXys Technologies está ao seu serviço para desenvolver a aplicação que satisfaça as suas necessidades ao abrigo de um contrato de investigação e desenvolvimento. Tecnologia ULCoat - Acoplado ao módulo ULS OMEGA - Utilizado para deposição de camadas finas - Espessura ajustável de 50 a 1000 nanómetros - Espessura uniforme com variação +/- 2% - Velocidade de processamento para tratamento até 200 nm.cm2 / s - A versão standard está optimizada para depósitos de SiOx Bocal de injecção O fluxo do precursor é monitorizado antes da sua injecção no plasma. Este módulo combina os seguintes elementos: - Tanque precursor - Controlo do fluxo do precursor - Controlo do fluxo de gás - Componente de aquecimento (opcional) Ecrã táctil de interface digital intuitivo - Ecrã táctil integral (remoto se OEM) - Controlo intuitivo - Interface multilingue - Detecção e resolução de erros - Visualização das instruções em tempo real Gás compatível - Ar - Nitrogénio - Outras misturas de gás

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.