Máquina de deposição PVD HELIOS series
por pulverização catódica de magnétronde camadas finaspara optoeletrônica

máquina de deposição PVD
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron
Tipo de deposição
de camadas finas
Aplicações
para optoeletrônica

Descrição

A série de Helios dos sistemas óticos de Bühler Leybold é um revestimento thin-film rápido, preciso e inteiramente automatizado flexível da plataforma para. É projetada e projetada especial para os revestimentos óticos de alta qualidade que caracterizam os projetos sofisticados do filtro a ser conseguidos com rendimento elevado e produção elevada. As camadas extremamente densas, lisas, estoiquiométricas e amorfas asseguram o desempenho ótico incomparável. O sistema de vigilância ótico para medidas in situ da em-carcaça facilita a precisão final no controle de espessura da camada. Qualidade proeminente da produtividade e da camada A tecnologia avançada do magnétron reactivo plasma-ajudado que sputtering (PARMS) permite o depósito de revestimentos dieléctricos dos alvos do metal, ajudado por uma fonte do plasma da radiofrequência (RF) com uma taxa de depósito elevada para a produtividade elevada que conduz aos produtos superiores da classe com elevada precisão na escala atômica e no rendimento elevado. Durante cada rotação, uma camada secundário-estoiquiométrica fina do óxido é depositada pelo magnétron duplo selecionado e transferida a uma camada deabsorção do óxido ao passar o plasma do oxigênio da fonte do RF. Este método assegura as mais baixas perdas e resultados perfeitos do stoichiometry - mesmo quando sputtering dos alvos do metal. A monitoração ótica facilita a estabilidade elevada da produção A monitoração ótica in situ da em-carcaça direta é executada em uma modalidade intermitente usando um vidro do teste em uma das posições da carcaça dentro da plataforma giratória de giro. Isto conduz à estabilidade da produção e à repetibilidade extremamente elevadas do revestimento. A plataforma giratória de giro rápida permite a produção de camadas muito finas de alguns nanômetros e exatidão elevada.

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