Sensor de gás NDIR Gasboard-2060

para monitoramento de purificação de gases para semicondutoresanalógicocom saída de tensão

Visão geral
O Gasboard-2060 é um sensor de gás SiF4 de alto desempenho projetado para a deteção em tempo real do ponto final de limpeza (EPD) em câmaras de deposição CVD à base de silício. Baseado na tecnologia infravermelha não dispersiva (NDIR) com uma câmara de gás especialmente concebida, fornece medição altamente seletiva e precisa da concentração de SiF4 em processos de limpeza de câmaras de semicondutores. O Gasboard-2060 monitoriza a concentração de SiF4 em tempo real, permitindo indicação rápida e precisa do ponto final de limpeza para reduzir o tempo de limpeza e o consumo de gás, ao mesmo tempo que minimiza o desgaste da câmara e prolonga a vida útil dos componentes. O design modular facilita a instalação e suporta funções de calibração e ajuste para integração e manutenção convenientes.

Características

• Tecnologia NDIR para medição sensível e precisa de SiF4.
• Resposta rápida para determinação precisa do ponto final de limpeza da câmara de deposição.
• Baixa deriva zero e alta repetibilidade para desempenho de medição consistente.
• Design modular para fácil integração e instalação no sistema.
• Saídas de comunicação analógicas e digitais para interface flexível.

Especificações
Medição: SiF4
Princípio de deteção: NDIR
Intervalo: (0.0-0.2) Absorbance
Tempo de resposta: T90＜2s
Taxa de reporte de dados: 0.5s
Saída analógica: 1-10VDC
Alimentação: 15VDC (≤300mA), 24VDC
Comunicação digital: RS232
Porta de amostragem: KF16
Dimensões: 200×120×75.5mm
Taxa de fuga: ＜1×10-8 Pa·m3/s (He)
Temperatura de operação: (5～65) ℃

Especificações técnicas

• Medição: SiF4
• Princípio de deteção: NDIR
• Intervalo: (0.0-0.2) Absorbance
• Tempo de resposta: T90＜2s
• Taxa de reporte de dados: 0.5s
• Saída analógica: 1-10VDC
• Alimentação: 15VDC (≤300mA), 24VDC
• Comunicação digital: RS232
• Porta de amostragem: KF16
• Dimensões: 200×120×75.5mm
• Taxa de fuga: ＜1×10-8 Pa·m3/s (He)
• Temperatura de operação: (5～65) ℃