O FemtoLux 3 é um laser de fibra femtossegundo moderno projetado tanto para pesquisa e desenvolvimento quanto para integração industrial. Ele oferece uma potência de saída de 3 W e permite a otimização dos parâmetros do laser para aplicações como marcação e estruturação de volume de materiais transparentes, fotopolimerização, imagem biológica, microscopia não linear, e mais.
Características- A 1030 nm: potência de saída típica de 3 W, até 3 μJ/pulso e 10 μJ/rajada
- A 515 nm: potência de saída típica de 1,2 W, até 1,2 μJ/pulso e 5 μJ/rajada
- < 300 fs … 5 ps duração de pulso ajustável
- M² < 1,2
- Capacidades versáteis de controle e sincronização do laser
- Até 10 MHz de taxa de repetição de pulso
- Disparo inteligente para operação síncrona com scanner poligonal e PSO
- Controle instantâneo de amplitude
- Refrigeração passiva a ar da cabeça do laser
- Operação 24/7
Aplicações- Marcação de volume interno de materiais transparentes
- Marcação e estruturação
- Microusinagem de materiais frágeis
- Fotopolimerização
- Cirurgia oftalmológica
- Imagem biológica
- Bombeamento de OPO/OPA femtossegundo
- Microscopia
O FemtoLux 3 oferece uma duração de pulso ajustável de 300 fs a 5 ps, uma taxa de repetição de pulso ajustável até 10 MHz, e uma energia de pulso ajustável até 3 μJ, permitindo a otimização para uma ampla gama de aplicações. O laser pode ser equipado com um módulo de segunda harmônica para expandir ainda mais seu escopo de aplicação. Com o modo de rajada ativado, ele pode gerar rajadas de pulsos com energia acima de 10 μJ, melhorando significativamente a eficiência do processo. Sua cabeça de laser rígida, compacta e resfriada passivamente a ar permite a integração com vários equipamentos para microprocessamento de materiais, microscopia ou outros fins de pesquisa.
Especificações- Comprimento de onda central: 1030 nm (fundamental), 515 nm (com opção de segunda harmônica)
- Duração mínima do pulso (FWHM) a 1030 nm: < 300 fs (típico ~230 fs)
- Faixa de ajuste de duração do pulso: 300 fs – 5 ps
- Potência média de saída máxima: > 3 W a 1030 nm, > 1,2 W a 515 nm
- Estabilidade de potência a longo prazo (Desv. padrão): ≤ 0,5 %
- Energia máxima do pulso: > 3 µJ a 1030 nm, > 1,2 µJ a 515 nm
- Estabilidade de energia do pulso (Desv. padrão): < 2 %
- Taxa de repetição de pulso (PRR): 1 – 10 MHz
- Frequência de repetição de pulso (PRF) após divisor de frequência: PRF = PRR / N, N=1, 2, 3, … , 65000; disparo único
- Gating de pulso externo: via entrada TTL
- Modo de rajada: 1 – 10 pulsos
- Energia máxima de rajada: > 10 µJ a 1030 nm, > 5 µJ a 515 nm
- Controle de forma de rajada: via entrada analógica
- Atenuação de potência: 0 – 100 % a partir da aplicação de controle remoto ou via entrada analógica
- Orientação de polarização: linear, vertical
- Razão de extinção de polarização: > 1000:1
- M²: < 1,2
- Divergência do feixe (ângulo total): < 1,0 mrad
- Elipticidade do feixe (campo distante): > 0,85
- Estabilidade de apontamento do feixe (pk-to-pk): < 30 µrad
- Diâmetro do feixe (1/e²) a 20 cm da abertura do laser: 2,0 ± 0,3 mm a 1030 nm, 1,0 ± 0,2 mm a 515 nm
- Refrigeração da cabeça do laser: ar, passiva
- Tamanho da cabeça do laser (L×W×H): 459,5 × 362 × 111 mm a 1030 nm, 615,3 × 362 × 139 mm a 515 nm
- Tamanho da unidade de alimentação (L×W×H): 496 × 483 × 184 mm (autônoma), 548 × 483 × 184 mm (montável em rack de 19″)
- Comprimento do umbilical: 5 m
- Requisitos de alimentação: 100 – 240 V AC, monofásico 47 – 63 Hz
- Consumo máximo de energia: < 500 W
- Temperatura ambiente de operação: 15 – 30 °C
- Umidade relativa: 10 – 80 % (sem condensação)
- Nível de contaminação do ar: ISO 9 (ar ambiente) ou melhor
- Classificação segundo EN60825-1: produto laser de CLASSE 4