Sistema de fotolitografia UV-NIL UV/EVG®620 NT

Conhecido por sua flexibilidade e confiabilidade, o EVG620 NT fornece tecnologia de alinhamento de máscara de última geração em um espaço minimizado. O software amigável ao operador, o tempo minimizado para trocas de máscara e ferramentas, bem como o suporte de serviço eficiente em todo o mundo os tornam a solução ideal para qualquer ambiente de P&D até a produção de volume semi-automatizada. A ferramenta suporta uma variedade de processos litográficos padrão, tais como os modos de exposição a vácuo, suave, duro e de proximidade, a opção de alinhamento do lado oposto. Além disso, o sistema oferece recursos adicionais para configurações multiuso, incluindo alinhamento de ligas e litografia de nanoimpressão. Além disso, a tecnologia SmartNIL proprietária da EVG é suportada por configurações de sistema semi-automatizadas e totalmente automatizadas. A SmartNIL é a tecnologia NIL líder na indústria, permitindo a padronização de características extremamente pequenas até menos de 40 nm*, bem como uma vasta gama de tamanhos e formas de estruturas. O SmartNIL em combinação com a tecnologia de carimbo flexível multiuso permite um rendimento inigualável com vantagens consideráveis de custo de propriedade, preservando a escalabilidade e a facilidade de manutenção. O SmartNIL da EVG resgata a promessa de longo prazo de que a nanoimpressão é uma tecnologia litográfica alternativa de baixo custo e alto volume para a fabricação em massa de estruturas de micro e nanoescala. *resolução dependente do processo e do modelo