Máquina de deposição física em fase de vapor OPT-E

de camadas finasa vácuoóptica

Visão geral
OPT-E é um sistema de revestimento óptico por feixe de eletrões para deposição de filmes finos ópticos e funcionais sobre vidro, quartzo, wafers de silício e cerâmicas. As aplicações típicas incluem vidro 3D para dispositivos móveis, lentes ópticas de precisão e wafers semicondutores. O sistema integra uma pistola de eletrões de deflexão com cadinho de cobre arrefecido a água e suporta monitorização cristalina e óptica para controlo preciso de multicamadas. Existem opções configuráveis de fonte iónica para melhorar a densidade e aderência do filme.

Benefícios principais

• Pistola de eletrões de deflexão com cadinho de cobre arrefecido para evaporação de metais de elevado ponto de fusão e cerâmicas óxidas
• Monitorização cristalina e óptica para controlo preciso de espessura e espectro
• Opções de deposição assistida por iões (RF, cátodo oco, filamento Hall) para aumentar densidade e aderência
• Portadores em cúpula ou planetários que permitem processos multicamadas contínuos (revestimentos AR, HR, filtros)

Características

• Fonte de evaporação por feixe de eletrões
• Sistemas de monitorização cristalina e óptica para controlo de multicamadas
• Tipos de fonte iónica configuráveis: RF, cátodo oco, filamento Hall
• Porta‑peças: cúpula integrada ou disco planetário de 4 eixos; revolução ou rotação planetária com regulação de velocidade sem degraus e frequência variável
• Interface tátil e automação PLC

Parâmetros do produto
Modelo: OPT-E
Tecnologia de revestimento: Evaporação por feixe de eletrões
Princípio de funcionamento: Deposição física em fase vapor por evaporação com feixe de eletrões de alta energia
Materiais de substrato: Vidro, quartzo, wafers de silício, cerâmicas
Aplicações típicas: Vidro 3D para dispositivos móveis, lentes ópticas de precisão, wafers semicondutores
Tipos de revestimento: AR, HR, filmes de filtro óptico, camadas de eletrodo/contato para semicondutores, filmes AF
Materiais comuns: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
Fonte de evaporação: Pistola de eletrões de deflexão com cadinho de cobre arrefecido a água
Vácuo final: 6 × 10⁻⁴ Pa (sem carga, condição de sala limpa)
Opções de diâmetro da câmara: Ø900 / Ø1100 / Ø1350 / Ø1550 / Ø1800 / Ø2050 / Ø2350 / Ø2700 mm
Altura da câmara: 1500 mm
Porta‑peças: Porta‑peças em forma de cúpula / disco planetário plano
Especificação do porta‑peças: Cúpula integrada / disco planetário 4 eixos

Especificações técnicas

• Modelo: OPT-E
• Método de revestimento: Evaporação por feixe de eletrões (pistola de eletrões de deflexão + cadinho de cobre arrefecido)
• Monitorização: Monitorização cristalina e óptica para controlo de espessura e comprimento de onda
• Assistência iónica: Opções configuráveis RF, cátodo oco ou filamento Hall
• Substratos suportados: Vidro, quartzo, wafers de silício, cerâmicas
• Revestimentos suportados: AR, HR, filtros ópticos, camadas eletrodo/contato para semicondutores, AF
• Materiais comuns: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
• Desempenho de vácuo: até 6 × 10⁻⁴ Pa (sem carga, condições de sala limpa)
• Tamanhos de câmara: diâmetros Ø900–Ø2700 mm; altura 1500 mm
• Porta‑peças: cúpula ou planetário (cúpula integrada ou disco planetário 4 eixos), controlo de velocidade por frequência variável
• Controlo: Interface tátil e automação PLC