Máquina de deposição PVD LTMC

por CVDa vácuo

Visão geral
O equipamento LTMC utiliza deposição química em fase vapor por plasma a baixa temperatura (PCVD) para formar uma camada de difusão metal-cerâmica em componentes metálicos. Em vácuo e abaixo de 150°C, o plasma ativa gases de processo contendo silício, boro e nitrogênio, que reagem com a superfície do substrato e difundem, formando uma camada compósita graduada que aumenta a dureza superficial e fornece fases de lubrificação sólida.

Resumo de desempenho chave

• Volume da câmara: 3,4 m³
• Área de tratamento efetiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Capacidade máxima de carga: 3.000 kg
• Tempo de processo típico: 3–5 horas (depende da peça e parâmetros)
• Temperatura de operação: abaixo de 150°C

Principais benefícios da tecnologia LTMC

• Endurecimento de superfície a baixa temperatura: aumenta a dureza da superfície limitando efeitos térmicos no substrato, adequado para peças de parede fina e de precisão.
• Ligação por difusão cerâmica: Si, B e N formam fases cerâmicas que difundem ~10–20 μm, gerando uma camada compósita graduada e fortemente ligada, resistente ao desgaste.
• Superfície autolubrificante: formação de fases como nitreto de boro hexagonal fornece lubrificação sólida para reduzir atrito mantendo a dureza.
• Tratamento de superfícies internas e externas: formas de eletrodos ajustáveis permitem tratar paredes internas e componentes de parede fina.

Aplicações e materiais compatíveis

• Aplicações típicas: camisas de cilindro, anéis de pistão, ferramentas de corte, moldes, árvores de cames, balancins, rolamentos, engrenagens e componentes semelhantes que requerem resistência ao desgaste e baixo atrito.
• Materiais tratáveis: aços, ligas de titânio, ligas de alumínio, carboneto cimentado (exemplos testados: 20CrNiMo, TC17, YG6, cobre puro).

Detalhes do processo e funcionais
LTMC usa PCVD a baixa temperatura: o plasma ativa gases reativos (com Si, B e N) que formam fases cerâmicas que difundem na região próxima à superfície até 10–20 μm, criando uma camada compósita graduada com propriedades resistentes ao desgaste e autolubrificantes.

Parâmetros do produto
Equipamento: LTMC Low Temperature Metal Ceramic Coating Equipment
Tecnologia de processo: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
Volume da câmara: 3,4 m³
Área de tratamento efetiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
Capacidade máxima de carga: 3.000 kg
Dimensões do equipamento (L × W × H): 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
Elementos formadores da cerâmica: silício, boro, nitrogênio
Gases de processo: N2 / SiH4 / B2H6
Profundidade de difusão cerâmica: 10–20 μm
Modos de controlo de gás: controlo de pressão da câmara ou controlo de fluxo de gás
Configuração da bomba de vácuo: bomba de palhetas + bomba Roots
Velocidade de bombagem: 1.200 m³/h
Tempo de processo típico: 3–5 horas
Temperatura de operação: abaixo de 150°C

Perguntas frequentes selecionadas

• Para que serve o equipamento LTMC? — Tratamento de difusão metal-cerâmica a baixa temperatura para melhorar dureza superficial, resistência ao desgaste e propriedades autolubrificantes em peças como camisas, rolamentos, engrenagens, ferramentas e moldes.
• Qual é a temperatura de tratamento? — Abaixo de 150°C (temperatura máxima de trabalho 150°C).
• Que materiais podem ser tratados? — Aço, ligas de titânio, ligas de alumínio, carboneto cimentado (ex.: 20CrNiMo, TC17, YG6, cobre puro).
• É possível tratar paredes internas e peças de parede fina? — Sim. As formas de eletrodos são ajustáveis para tratamento de paredes internas e peças de parede fina (ex.: camisas de 1,5 mm).
• Qual é a capacidade máxima de carregamento? — 3.000 kg; área de tratamento efetiva 1.200 × 1.100 × 550 mm; volume da câmara 3,4 m³.

Especificações técnicas

• Série / nome: LTMC
• Processo: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
• Volume da câmara: 3,4 m³
• Área de tratamento efetiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Capacidade máxima de carga: 3.000 kg
• Dimensões do equipamento: 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
• Temperatura de operação: abaixo de 150°C
• Tempo de ciclo típico: 3–5 horas (depende da peça e configurações)
• Elementos formadores da cerâmica: silício, boro, nitrogênio
• Gases de processo (exemplos): N2 / SiH4 / B2H6
• Profundidade de difusão cerâmica: 10–20 μm
• Controlo de gás: controlo de pressão da câmara ou controlo de fluxo
• Sistema de vácuo: bomba de palhetas + bomba Roots
• Velocidade de bombagem: 1.200 m³/h
• Materiais tratáveis: aço, ligas de titânio, ligas de alumínio, carboneto cimentado
• Capacidades: tratamento de superfícies internas e externas, processamento de peças de parede fina, formas de eletrodos ajustáveis