Máquina de deposição PECVD

de camadas finas de silíciopara aplicações fotovoltaicas

Uma camada de película antirreflexo de nitreto de silício (SixNy) com uma espessura de cerca de 75-140nm é depositada na superfície da bolacha de silício Uma camada de película de nitreto de silício antirreflexo (SixNy) com uma espessura de cerca de 75-140nm é depositada na superfície da bolacha de silício, e a superfície e o interior da bolacha de silício são passivados utilizando os iões H+ activos gerados durante o processo de deposição. Ao mesmo tempo que reduz a reflexão da luz, também melhora o tempo de vida dos portadores minoritários das bolachas de silício, o que, em última análise, se reflecte diretamente na eficiência de conversão das células de silício cristalino, utilizadas principalmente no crescimento de películas de nitreto de silício na frente e no verso das células PERC/TOPCon. Parâmetros principais Processo maduro de alta capacidade, tecnologia de controlo de temperatura de modo duplo, tecnologia de proteção do calibre da película; O mecanismo patenteado push-pull suportado em ambas as extremidades pode eliminar a instabilidade, aumentar a velocidade em 30%, aumentar a capacidade de carga e melhorar significativamente a fiabilidade. O tempo para entrar e sair do barco não é superior a 20 segundos (não incluindo a recolha e colocação do barco); Corpo do forno de arrefecimento rápido: a mais recente tecnologia patenteada faz com que a temperatura do corpo do forno desça rapidamente para a temperatura necessária, a taxa de arrefecimento é aumentada em mais de 25%, o que pode melhorar a uniformidade da temperatura no tubo do forno; Método patenteado de dissipação de calor paralelo da posição de armazenamento do barco: melhora o efeito de arrefecimento, encurta o tempo de arrefecimento em mais de 15% e evita a parte inferior da entrada de ar da frente da consola para melhorar a limpeza interna da consola; Tecnologia de controlo em circuito fechado de pressão adaptativa rápida;