Espectrômetro de massa PSM

de quadrupolopara a indústria químicade processo

Um analisador de massa e energia para diagnóstico de plasma As sondas de plasma Hiden medem alguns dos principais parâmetros do plasma e fornecem informações detalhadas relacionadas com a química da reacção do plasma. Caracterização de Plasma Gravura por plasma e ALE HiPIMS Revestimento de carbono tipo diamante (DLC) Revestimentos por deposição por laser pulsado (PLD) Deposição por Magnetrão DC de películas de SiBCN Uma vasta gama de processos industriais utiliza plasmas eléctricos, e novas aplicações estão a desenvolver-se rapidamente. Na indústria microelectrónica, as exigências de rendimentos mais elevados e geometrias de dispositivos cada vez mais reduzidas significam que a reprodutibilidade e a compreensão do processo são vitais. A compreensão detalhada da cinética de reacção dos iões de plasma e das espécies neutras desempenha um papel fundamental no desenvolvimento de processos avançados de engenharia de superfícies, como o HIPIMS. Colector bombeado diferencialmente com flange de montagem na câmara de processamento Quadrupolo de filtro triplo de alta sensibilidade / estabilidade, opções de gama de massas até 510amu Detector de contagem de iões por impulsos com gama dinâmica de 7 décadas Opção de análise de energia por varrimento de polarização de 100eV Óptica de extracção/exclusão de iões com ionizador integral sintonizável para MS de potencial de aparência Medidor de Penning e encravamentos para protecção contra sobrepressão Opção de passagem de sinal e passagem de sinal programável para estudos resolvidos no tempo em plasma pulsado Análise de neutros e radicais como padrão, opção de análise de iões +ve / -ve Opções de protecção Mu-Metal, Radio-Metal, opções de funcionamento a alta pressão Controlo MASsoft via RS232, RS485 ou Ethernet LAN