Sistema de feixe de íons focalizado NX2000

Os sistemas FIB-SEM tornaram-se uma ferramenta indispensável para a caraterização e análise das mais recentes tecnologias e materiais à escala nanométrica de elevado desempenho. Uma procura cada vez maior de lâminas TEM ultrafinas, sem artefactos durante o processamento FIB, requer as melhores tecnologias de ótica de iões e electrões. O sistema NX2000 FIB de alto desempenho e o sistema SEM de alta resolução da Hitachi, com as suas tecnologias exclusivas de controlo da orientação da amostra* e de feixe triplo*, suportam uma preparação de amostras TEM de alto rendimento e alta qualidade para aplicações de ponta. A deteção de ponto final de SEM em tempo real e de alto contraste permite a preparação de amostras TEM ultrafinas de dispositivos com menos de 20 nm. A microamostragem* e o mecanismo de posicionamento de alta precisão* permitem o controlo da orientação da amostra para efeitos de anticurtaining (função ACE) e lamelas de espessura uniforme. Sistema de feixe triplo* Configuração de feixe triplo para redução de danos induzidos por Ga FIB. - 3ª coluna de iões Ar/Xe - Sistema de microamostragem - Sistema de injeção de múltiplos gases - Sistema de inclinação dupla - Função Swing (para 3ª coluna de iões Ar/Xe) - Assistente de preparação de amostras TEM - Software automático de preparação de amostras TEM - Software de navegação CAD - Software de ligação com instrumentos de inspeção de defeitos - Suporte de proteção do ar - Suporte de arrefecimento - Limpador de plasma - Sistema EDS (Energy Dispersive x-ray Spectroscopy)