Sistema de feixe de íons focalizado NX2000

Sistema de feixe de íons focalizado - NX2000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH
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Descrição

O NX2000 é um FIB-SEM optimizado para aplicações de semicondutores (análise de defeitos com importação de coordenadas KLARF, extração de lamelas TEM, desenvolvimento de dispositivos). Com um curso X,Y de 205 x 205 mm, a plataforma de amostras permite mesmo o processamento de superfícies completas de bolachas de 200 mm sem rotação da amostra. O Ga FIB montado verticalmente permite uma corrente de iões até 100nA a 30 kV. A coluna FE-SEM está equipada com um emissor de campo frio.

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Focused Ion Beam Systems (FIB/FIB-SEM)

* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.