Controlador de pressão de gás GR-300

Sistema de arrefecimento do lado de trás do wafer A série GR-300 pode controlar os gases utilizados para refrigerar a parte traseira das pastilhas que são fixadas na posição por um sistema de mandril electrostático. A estabilidade e precisão do GR-300 torna-o ideal para controlar o fluxo de Hélio e Argônio em sistemas de resfriamento de wafer. Controle de pressão com mais estabilidade e precisão Sensor de fluxo de massa (Opção) Compatível para vários encaixes Conformidade RoHS No exemplo abaixo, a série GR-300 controla os gases usados para resfriar a parte traseira das pastilhas que são fixadas em posição por um sistema de mandril eletrostático.