Sistema de medição óptico LMS IPRO series

para waferspara circuitos integradospara controle

O sistema de metrologia de registo de retículos LMS IPRO7 foi concebido para fornecer uma verificação precisa e rápida do desempenho da colocação de padrões em retículos EUV e ópticos para o nó de design de 7 nm. Ao oferecer uma caraterização abrangente do erro de colocação do padrão do retículo, o LMS IPRO7 produz dados utilizados para correcções do gravador de máscaras de feixe eletrónico e para o controlo de qualidade do retículo durante o desenvolvimento e a produção de retículos de nós de conceção avançados. Usando o algoritmo de metrologia baseado em modelo de propriedade da KLA, o LMS IPRO7 mede o erro de posicionamento do padrão para alvos e vários recursos de padrão no dispositivo com alta precisão, permitindo a caraterização e a redução das contribuições relacionadas ao retículo para erros de sobreposição do dispositivo na fábrica de CI. Aplicações Qualificação do retículo, verificação da qualidade do retículo de saída, qualificação e monitorização do gravador de máscaras, monitorização do processo do retículo, controlo da modelação da bolacha Produtos relacionados Sistema de metrologia de máscaras para o nó de design de 10nm, suportando medições em marcas de registo padrão e caraterísticas de padrão no dispositivo. Sistema de metrologia de máscaras para os nós de design de 32nm/28nm. Com uma capacidade de manuseamento flexível única na indústria, o LMS IPRO4 suporta tamanhos de máscara de 4" a 8". Clique no botão Contacte-nos para obter mais informações sobre sistemas novos e renovados.