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Máquina de deposição PVD MINIPEROvappor pulverização catódica de magnétronpor evaporação térmicaassistida por feixes de íons
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Características
- Método
- PVD
- Tecnologia
- por pulverização catódica de magnétron, por evaporação térmica, assistida por feixes de íons
- Tipo de deposição
- de camadas finas
- Outras características
- a vácuo
- Aplicações
- para a indústria da microeletrônica, para aplicações fotovoltaicas
Descrição
Mini Câmara PVD 100% dedicada aos Perovskites
- Pode ser integrado em porta-luvas MBRAUN existentes (através da antecâmara)
- Desenho compacto
- Para substratos até 50x50 mm
- Até 4 fontes
- Uniformidade de camadas < +/-5
- Solução económica
- Curto prazo de entrega
- Fácil reequipamento em porta-luvas existentes
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.