Máquina de gravação de PCI química

Graças à conduta de banho optimizada e a um dispositivo de desespumação, não é necessário nenhum produto químico anti-espuma adicional. Além disso, o reabastecimento controlado da solução em desenvolvimento assegura a remoção fiável da resistência. Desenvolvimento sem desespumação graças a uma conduta de banho optimizada A dosagem controlada da solução do revelador no pós revelador garante processos de desenvolvimento optimizados e a remoção fiável da resistência