Máquina de gravação de wafers química

para a indústria da microeletrônica

Isolamento de The Edge + gravura a água-forte de PSG ligas do sistema Inline diversas etapas do processo em um sistema com projeto modular. De um lado a camada do emissor no rearside da bolacha gerada durante o processo de difusão é isolada unilateralmente da parte anterior da bolacha a fim impedir o mau funcionamento da célula solar. Por outro lado o vidro fosforoso do silicato (PSG) é removido da superfície da bolacha. Durante o isolamento que da borda o emissor é protegido pela máscara da água tornou-se e patenteou-se por SCHMID. Os rolos de transporte perfilados especiais asseguram-se de que a química entre o contato exclusivamente com o rearside, e consequentemente pouca química é consumida. Para gravura a água-forte de manter especial do vidro do silicato do fósforo os eixos são usados em vez dos eixos cabidos com os anéis-O. Estes não deixam impressões nas bolachas. Além, o transporte alterado permite a limpeza fácil dos eixos. Consequentemente, a poluição orgânica das bolachas pelo sistema de transporte é excluída. A enxaguadela entre as etapas individuais do processo assegura o arrasto-para fora mínimo. A tecnologia múltipla da cascata de SCHMID reduz o consumo de DI água. Os agradecimentos ao projeto modular das etapas do sistema inline, da taxa de transferência e do processo podem ser adaptados às necessidades dos clientes. Além, os processos de limpeza especiais estão disponíveis para pilhas de PERC.