Cartucho filtrante de ar SEFAR® X

de despoeiramentopara filtração finade filtração submicrónica

Descrição
Os elementos filtrantes plissados SEFAR® X-Series fornecem filtração de alto desempenho para filtros de mangas pulse-jet ao aumentar a área filtrante utilizável e melhorar a retenção de partículas, mantendo compatibilidade com muitos sistemas existentes.

Benefícios chave

• Maior capacidade de produção: Até 3× área de filtração e redução da relação ar/tecido (até 67%), permitindo aumentos de capacidade até 25% em aplicações adequadas.
• Vida útil prolongada: Menor abrasão e pressão/frequência de pulso reduzidas podem estender a vida útil dos elementos até 300% conforme condições.
• Redução de emissões: Membrana e-PTFE e vedação avançada aumentam a retenção de partículas submicrónicas e podem reduzir emissões de pó até 99% nas variantes com membrana.
• Eficiência energética: Pressão e frequência de pulso mais baixas reduzem o consumo de energia até 40% e o uso de ar comprimido até 10×.
• Instalação simplificada: Retrofit direto em muitos filtros de mangas pulse-jet; elementos frequentemente mais curtos (até 50%) e em muitos casos sem necessidade de gaiolas de aço separadas.
• Desempenho em altas temperaturas: Variantes projetadas para temperaturas elevadas (ex. até ≈260°C).

Variantes e aplicações típicas
Disponível em seis variantes para condições desde standard até temperaturas extremas. Exemplos:

• X-300 — aumenta a área de filtração (≈2× reportado), adequado até ≈190°C para spray drying e filtração geral de pós (ex. TiO2, processos químicos).
• X-600 — concebido para fases de alta temperatura (≈260°C) e micronização exigente.
• X-750 — equipado com membrana e-PTFE avançada e vedação otimizada para controlo de emissões e retenção de partículas finas.

Tecnologia e materiais

• Construção plissada com geometria rígida para aumentar a área e garantir estabilidade dimensional.
• Membrana e-PTFE opcional em variantes selecionadas para retenção submicrónica superior.
• Encapsulamento em alumínio de alto desempenho para resistência térmica e química.
• Núcleo interno em aço robusto que muitas vezes elimina a necessidade de gaiolas adicionais.
• Tecnologia de vedação proprietária para minimizar fugas e manter desempenho fiável.

Destaques de desempenho

• Aumento da área de filtração até 3× comparado a mangas convencionais.
• Melhoria da capacidade até 25% em aplicações adequadas.
• Possível extensão da vida útil até 300% conforme condições operacionais.
• Redução de emissões até 99% com variantes equipadas com membrana e-PTFE.
• Economia de energia até 40% e redução do uso de ar comprimido até 10×.

Instalação e assistência
Projetados para retrofit simples em filtros de mangas pulse-jet sem necessidade de modificação estrutural. Elementos são mais curtos e possuem rigidez integrada que facilita a manuseio e instalação. A SEFAR fornece otimização de processo, suporte de instalação/arranque e serviços de manutenção/monitorização para garantir o desempenho do sistema.

Especificações técnicas

• Família de produto: SEFAR® X-Series elementos plissados.
• Variantes: Seis variantes cobrindo aplicações standard a altas temperaturas.
• Capacidade térmica: Até ≈260°C para variantes de alta temperatura (ex. X-600).
• Membrana: e-PTFE disponível em variantes selecionadas (ex. X-750) para retenção submicrónica.
• Área de filtração: Até 3× a área de mangas convencionais (dependendo da variante).
• Redução de emissões: Até 99% com versões com membrana.
• Poupança energia/ar: Até 40% de redução de energia; consumo de ar comprimido reduzido até 10×.
• Características de design: construção plissada, núcleo interno em aço, encapsulamento em alumínio, vedação avançada.
• Compatibilidade: Substituição/retrofit direto em muitos sistemas pulse-jet; em muitos casos não são necessárias gaiolas.
• Aplicações típicas: Produção de TiO2, micronização de pigmentos, processos químicos, minerais não metálicos, alumina, mineração/raffinação e outros processos industriais geradores de pó.