Máquina de deposição PVD RTSP1200

por pulverização catódica de magnétronde camadas finaspara eletrônica

A prata de revestimento direto PVD em filtros dielétricos de cerâmica é uma tecnologia de revestimento avançada aplicada com estação base 5G e outros semicondutores para indústrias eletrônicas. Uma aplicação típica é o substrato radiante de cerâmica. A deposição de película condutora de prata / cobre em óxido de alumínio (Al2O3), substratos AlN por tecnologia de pulverização catódica a vácuo PVD, tem acima de tudo uma grande vantagem em comparação com os métodos de fabricação tradicionais: DBC LTCC HTCC, que tem custos de produção muito mais baixos. A equipa da Royal Technology colaborou com o nosso cliente para desenvolver o processo de revestimento de prata PVD, aplicando com sucesso a tecnologia de pulverização catódica que pode substituir o processo convencional de escovagem de prata líquida.