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Máquina de deposição PVD
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Características
- Método
- PVD
Descrição
·Deposição por Vapor Físico (PVD) e Deposição por Plasma Reativo (RPD) integradas.
·A gama de equipamentos abrange desde equipamentos de I&D até equipamentos de produção em massa.
·Capacidade de produção em massa: 100 MW, 250 MW, 600 MW.
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Outros produtos Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
PSC Equipment Series
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.