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Máquina de deposição PECVD de camadas finas
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Características
- Método
- PECVD
- Tipo de deposição
- de camadas finas
Descrição
·Ignição rápida por RF com potência de reflexão mínima, para uma deposição de película uniforme e estável;
·Tecnologia de alimentação múltipla por RF madura e estável, compatível mesmo com câmaras de processo de grandes dimensões;
·Gás ajustável de forma contínua entre o difusor e o substrato, proporcionando possibilidades de processo flexíveis;
·Elevada produtividade a um custo relativamente baixo, com capacidade de conceção de produtos personalizados;
·Conceção modular para fácil instalação e manutenção, juntamente com o mais elevado protocolo de segurança, desde a conceção até à fabricação.
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Outros produtos Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
Inline Equipment Series
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.