Espectrômetro de fotoelétrons excitados por raios X AXIS Supra+

de laboratóriopara a indústria dos semicondutorespara espectroscópio

Visão geral
O AXIS Supra+ é um espectrômetro de fotoelétrons por raios X (XPS) com capacidade de imagem, que fornece informações quantitativas elementares e do estado químico nos ~10 nm superiores da superfície de um material. Também comercializado como Kratos Ultra 2 no Japão, o AXIS Supra+ combina capacidades espectroscópicas e de imageamento paralelo com alto nível de automação, suportando análises de superfície em pesquisa e produção para metais, semicondutores e isolantes.

Principais características

• Sensibilidade: Excelente sensibilidade em modos de espectroscopia e imageamento XPS para análise de superfície e traços.
• Usabilidade: O software ESCApe integra aquisição, processamento e automação para fluxos de trabalho eficientes.
• Imageamento XPS paralelo: Imageamento rápido com alta resolução espacial para mapear a distribuição lateral de elementos e estados químicos.
• Resolução: Alta resolução espectroscópica e de imageamento, adequada para estudos detalhados da química de superfície.
• Automação: Ampla automação das funções do espectrômetro para aumentar rendimento e reprodutibilidade.
• Técnicas adicionais: Plataforma modular configurável com opções complementares de análise e preparação de superfície sem degradar o desempenho XPS.

Aplicações

• Análise de materiais para baterias e armazenamento de energia.
• Estudos relacionados com HAXPES (Hard X‑ray photoelectron spectroscopy).
• Caracterização de revestimentos e filmes finos.
• Perfilagem de profundidade UPS‑XPS de filmes OLED e outras camadas finas usando sputtering com aglomerados de argônio.
• Quantificação da composição de camadas em semicondutores compostos e materiais multicamada.

Documentos disponíveis (notas de aplicação selecionadas)

• Perfil de profundidade combinado UPS‑XPS com aglomerados de argônio de filme fino OLED (nota de aplicação).
• Quantificação da composição de camadas em semicondutores compostos (nota de aplicação).
• Eliminação da sobreposição linha núcleo/pico Auger usando diferentes energias de fótons (nota de aplicação).

Especificações técnicas

• Marca: Shimadzu
• Modelo: AXIS Supra+
• Também conhecido como: Kratos Ultra 2 (Japão)
• Tipo: Espectrômetro XPS de imagem
• Profundidade de análise: aproximadamente ~10 nm da superfície
• Técnicas: XPS com modos espectroscópicos e de imageamento paralelo; suporta perfilagem UPS‑XPS com sputtering por aglomerados de argônio
• Imageamento: Imageamento XPS paralelo de alta resolução espacial para mapeamento químico lateral
• Sensibilidade & resolução: Projetado para excelente sensibilidade e alta resolução espectroscópica e de imageamento
• Software: ESCApe para aquisição integrada, processamento e controle de automação
• Compatibilidade de amostras: Metais, semicondutores, isolantes e diversos filmes/revestimentos finos
• Modularidade: Configurável com opções adicionais de análise e preparação de superfície sem comprometer o desempenho XPS