Visão geralA espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS), também conhecida como ESCA, é uma técnica consolidada de análise de superfície para caracterização de materiais. A XPS fornece informações quantitativas sobre elementos e estados químicos nos ~10 nm superiores de um material. O espectrômetro de fotoelétrons Kratos AXIS Nova coleta espectros e imagens XPS de materiais estáveis sob as condições de ultra‑alto vácuo exigidas pela técnica.
DesempenhoProjetado para uso eficiente em laboratório e produção, o AXIS Nova possui carregamento automatizado de amostras, câmeras ortogonais para posicionamento rápido e software de aquisição intuitivo. A placa de amostra de 110 mm permite o manuseio de amostras grandes e alto rendimento sem comprometer sensibilidade, resolução energética ou desempenho de imageamento espacial.
Características- Sensitivity — Coleta eficiente de fotoelétrons para alta sensibilidade em modos de espectroscopia e imageamento XPS.
- Resolution — Excelente resolução energética para medições precisas de pequenos deslocamentos químicos.
- Simplicity — Utiliza o software ESCApe para aquisição, processamento e geração de relatórios, garantindo fluxos de trabalho consistentes entre instrumentos Kratos.
- Parallel XPS imaging — Permite mapear a distribuição elementar e química na superfície.
- Automation — Manuseio automatizado de amostras e fluxos de trabalho predefinidos para aumentar rendimento e repetibilidade.
- Additional capabilities — Sistema extensível: opção de lâmpada UV He‑discharge para UPS (banda de valência e trabalho de função) e módulos analíticos adicionais.
Aplicações (selecionadas)- Revestimentos e filmes finos
- Polímeros e tratamentos de superfície
- Perfilamento por sputter com aglomerados de gás Arn+ de polímeros plasmáticos reticulados
- Análise de stents poliméricos revestidos com fármaco
- Sistemas combinatórios de filmes finos — análise por matriz
Especificações técnicas- Técnica: espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS) / ESCA
- Profundidade de análise: informação dos ~10 nm superiores do material
- Diâmetro da placa de amostra: 110 mm (manuseio de amostras grandes)
- Manuseio de amostras: carregamento automatizado
- Posicionamento: câmeras ortogonais para alinhamento fácil
- Imageamento: imageamento XPS paralelo com alta resolução espacial
- Sensibilidade e resolução: alta sensibilidade e excelente resolução energética
- Software: ESCApe para aquisição, processamento e geração de relatórios
- Opções: lâmpada UV He‑discharge para UPS (banda de valência e trabalho de função)