Espectrômetro de fotoelétrons excitados por raios X XPS
de laboratóriopara tratamento de superfíciespara espectroscópio

Espectrômetro de fotoelétrons excitados por raios X - XPS - Shimadzu France - de laboratório / para tratamento de superfícies / para espectroscópio
Espectrômetro de fotoelétrons excitados por raios X - XPS - Shimadzu France - de laboratório / para tratamento de superfícies / para espectroscópio
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Características

Tipo
de fotoelétrons excitados por raios X
Âmbito de utilização
de laboratório, para análises elementares, para espectroscópio, para pesquisa e desenvolvimento, de produção, para tratamento de superfícies
Outras características
de alta resolução, de alta sensibilidade, automático

Descrição

Visão geral
A espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS), também conhecida como ESCA, é uma técnica consolidada de análise de superfície para caracterização de materiais. A XPS fornece informações quantitativas sobre elementos e estados químicos nos ~10 nm superiores de um material. O espectrômetro de fotoelétrons Kratos AXIS Nova coleta espectros e imagens XPS de materiais estáveis sob as condições de ultra‑alto vácuo exigidas pela técnica.

Desempenho
Projetado para uso eficiente em laboratório e produção, o AXIS Nova possui carregamento automatizado de amostras, câmeras ortogonais para posicionamento rápido e software de aquisição intuitivo. A placa de amostra de 110 mm permite o manuseio de amostras grandes e alto rendimento sem comprometer sensibilidade, resolução energética ou desempenho de imageamento espacial.

Características
  • Sensitivity — Coleta eficiente de fotoelétrons para alta sensibilidade em modos de espectroscopia e imageamento XPS.
  • Resolution — Excelente resolução energética para medições precisas de pequenos deslocamentos químicos.
  • Simplicity — Utiliza o software ESCApe para aquisição, processamento e geração de relatórios, garantindo fluxos de trabalho consistentes entre instrumentos Kratos.
  • Parallel XPS imaging — Permite mapear a distribuição elementar e química na superfície.
  • Automation — Manuseio automatizado de amostras e fluxos de trabalho predefinidos para aumentar rendimento e repetibilidade.
  • Additional capabilities — Sistema extensível: opção de lâmpada UV He‑discharge para UPS (banda de valência e trabalho de função) e módulos analíticos adicionais.


Aplicações (selecionadas)
  • Revestimentos e filmes finos
  • Polímeros e tratamentos de superfície
  • Perfilamento por sputter com aglomerados de gás Arn+ de polímeros plasmáticos reticulados
  • Análise de stents poliméricos revestidos com fármaco
  • Sistemas combinatórios de filmes finos — análise por matriz


Especificações técnicas
  • Técnica: espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS) / ESCA
  • Profundidade de análise: informação dos ~10 nm superiores do material
  • Diâmetro da placa de amostra: 110 mm (manuseio de amostras grandes)
  • Manuseio de amostras: carregamento automatizado
  • Posicionamento: câmeras ortogonais para alinhamento fácil
  • Imageamento: imageamento XPS paralelo com alta resolução espacial
  • Sensibilidade e resolução: alta sensibilidade e excelente resolução energética
  • Software: ESCApe para aquisição, processamento e geração de relatórios
  • Opções: lâmpada UV He‑discharge para UPS (banda de valência e trabalho de função)
* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.