ResumoO TruPlasma DC Série 4000 (G2) é uma fonte de alimentação DC pulsada concebida para pulverização reativa de materiais difíceis. Suporta operação em modo pulsado e em modo Bias, proporcionando desempenho de plasma estável para processos críticos PVD e PECVD, reduzindo o tempo de inatividade causado por arcos e os danos ao substrato.
SloganProcessos pulsados para superfícies brilhantes
Principais características- Processamento digital de sinais para controlo de plasma estável e redução de perdas de tempo por arcos.
- Gestão rápida de arcos com baixa energia de arco para minimizar danos no substrato e defeitos de superfície.
- Ampla gama ajustável de frequência de pulso e tensão reversa/bias configurável para ajuste flexível do processo.
- Construção compacta e robusta com chiller de água integrado para poupança de espaço e menor manutenção.
- Funcionalidade dupla: suporta modos pulsado e Bias numa só unidade.
Aplicações- Revestimentos duros: plasma estável para maior dureza superficial e melhor resistência térmica/química.
- Metalização (PVD): deposição de camadas metálicas ultrafinas e homogéneas para propriedades óticas e elétricas.
- Fotovoltaica: adequado para deposição de TCO e camadas condutoras com baixos requisitos de energia de arco.
- Vidro arquitetónico: revestimentos PVD em grandes áreas com elevadas exigências de alimentação de processo.
Benefícios para o cliente- Melhoria da qualidade do revestimento e da produtividade através da redução de gotas, menos defeitos de superfície e aumento das taxas de deposição.
- Flexibilidade de processo através de parâmetros de pulso ajustáveis e operação em Bias para diferentes aplicações.
- Ferramentas avançadas de monitorização e diagnóstico para optimizar processos e reduzir tempos de paragem.
Opções- Operação paralela e sincronização de vários geradores, incluindo sincronização da detecção de arco e do modo de pulso para sistemas multi-alvo.
SoftwarePVD Power: software multilíngue e intuitivo para operação, configuração e diagnóstico. Mostra valores de processo, avisos/alarms, permite especificação de setpoints e regista/visualiza parâmetros de funcionamento com alta resolução temporal (função osciloscópio).
Especificações técnicas- Tecnologia: DC pulsado para pulverização reativa; suporta modo Bias.
- Modos de operação: pulsado e Bias (ambos suportados pela mesma unidade).
- Gestão de arco: digital, tratamento rápido com baixa energia de arco.
- Controlo de processo: processamento digital de sinais; amplo espectro de frequências de pulso; voltagem reversa ajustável.
- Refrigeração: chiller de água integrado para instalação compacta e menor manutenção.
- Escalabilidade: suporta operação paralela e sincronização de múltiplas unidades.
- Software: PVD Power para operação, configuração, diagnóstico e gravação/visualização de dados (função osciloscópio).
- Aplicações típicas: revestimentos duros PVD/PECVD, metalização (TCO), produção de células fotovoltaicas, revestimento de vidro arquitetónico em grande escala.