半導体用樹脂 GKR

高耐久性感光性高熱安定性

概要
幅広い回路パターン形成用途に対応するポジ型KrFフォトレジスト。GKRシリーズは高厚膜品から高解像度品まで複数のグレードを揃え、プロセス要件に応じた製品を提供します。

製品ラインアップ
GKRシリーズの製品群:

• GKR-46xx/32xxシリーズ（Implant向け）
• GKR-53xxシリーズ（C/H向け）
• GKR-63xxシリーズ（L/S向け）

関連製品

• EUV（13.5 nm）— ネガ型イメージング用EUV材料
• NIL（Nanoimprint Lithography）— 半導体リソグラフィプロセス向けNIL材料
• ArF（193 nm）— ドライ/イマージョン用ポジ型材料およびネガ型イメージング（NTI）向け材料
• i-Line、g-Line、Broadband — 中紫外線感光性フォトレジスト（<0.30 µm〜>1.0 µmの解像度対応）
• ネガ型（ポリイソプレン系）— ポリイソプレン系ネガ型レジストシリーズ
• e-Beam — 各種電子線用途向けのポジ/ネガ両トーンレジスト

特長 / 技術仕様

• 光波長：248 nm（KrF）
• トーン：ポジ型
• 主な製品シリーズ：GKRシリーズ
• 提供バリアント：GKR-46xx/32xx（Implant）、GKR-53xx（C/H）、GKR-63xx（L/S）
• ラインアップは高厚膜品から高解像度品まで含み、プロセス要件に対応