物理蒸着貯蔵マシン OPT-E

薄膜真空光学

概要
OPT-Eは、ガラス、石英、シリコンウエハ、セラミックス上に光学・機能性薄膜を形成する電子ビーム光学コーティング装置です。主な用途はモバイル向け3Dガラス、精密光学レンズ、半導体ウエハなどです。本システムは偏向電子銃と水冷銅クルーシブルを組み込み、結晶モニタと光学モニタにより多層制御を実現します。イオン源の構成オプションにより膜密度や密着性を向上できます。

主な利点

• 偏向電子銃＋水冷銅クルーシブルにより高融点金属や酸化物セラミックスの蒸着が可能
• 結晶モニタおよび光学モニタにより膜厚とスペクトルを精密に制御
• イオンアシスト（RF、ホロウカソード、フィラメントHall）オプションで膜密度・密着性を改善
• ドーム型またはプラネタリーキャリアで連続多層プロセス（AR、HR、フィルター）に対応

特徴

• 電子ビーム蒸発源
• 多層制御用の結晶モニタおよび光学モニタシステム
• 構成可能なイオン源タイプ：RF、ホロウカソード、フィラメントHall
• ワークピースキャリア：統合ドームまたは4軸プラネタリーディスク；回転方式は革命式またはプラネタリー回転、可変周波数の無段階速度制御
• タッチスクリーンとPLCによる制御

製品パラメータ
型式：OPT-E
コーティング技術：電子ビーム蒸着
動作原理：高エネルギー電子ビーム蒸着による物理蒸着（PVD）
基板材料：ガラス、石英、シリコンウエハ、セラミックス
典型用途：モバイル3Dガラス、精密光学レンズ、半導体ウエハ
コーティング種別：AR、HR、光学フィルム、半導体電極／接点層、抗指紋（AF）膜
一般的なコーティング材料：SiO2、TiO2、ZrO2、SiO
蒸発源：偏向電子銃＋水冷銅クルーシブル
到達真空度：6 × 10⁻⁴ Pa（無負荷、クリーンルーム条件）
チャンバ直径オプション：Ø900 / Ø1100 / Ø1350 / Ø1550 / Ø1800 / Ø2050 / Ø2350 / Ø2700 mm
チャンバ高さ：1500 mm
ワークピースキャリア：ドーム型キャリア／プラネタリーフラットディスク
キャリア仕様：統合ドーム／4軸プラネタリーディスク

技術仕様

• 型式：OPT-E
• コーティング方式：電子ビーム蒸発（偏向電子銃＋水冷銅クルーシブル）
• モニタリング：膜厚および波長制御用の結晶モニタおよび光学モニタ
• イオン支援：構成可能なRF、ホロウカソード、フィラメントHallイオン源
• 対応基板：ガラス、石英、シリコンウエハ、セラミックス
• 対応コーティング：AR、HR、光学フィルタ、半導体電極／接点層、AF
• 一般材料：SiO2、TiO2、ZrO2、SiO
• 真空性能：最良で6 × 10⁻⁴ Pa（無負荷、クリーンルーム条件）
• チャンバサイズ：直径Ø900〜Ø2700 mm、チャンバ高さ1500 mm
• ワークピースキャリア：ドームまたはプラネタリー（統合ドームまたは4軸プラネタリーディスク）、可変周波数速度制御
• 制御：タッチスクリーンおよびPLC自動化