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STEM顕微鏡 HF5000
素材研究用素材分析用計測学用

STEM顕微鏡
STEM顕微鏡
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特徴

タイプ
STEM
応用
計測学用, 素材研究用, 素材分析用
観察技術
BF-STEM, DF-STEM, インサイチュ
構成
床置き
電子源
冷陰極電界放出
レンズ設計
収差補正
検出器の特徴
2次電子
その他の特徴
高解像度, 自動, 半導体用, ナノテクノロジー用, 高増粘性
倍率

最大: 8,000,000 unit

最少: 20 unit

分解能

0.08 nm, 0.1 nm

詳細

空間分解能と傾斜・分析性能を調和した、200 kV収差補正TEM/STEM 0.078 nmのSTEM空間分解能や、高試料傾斜・大立体角EDXを、シングルポールピースで実現しました。 走査透過電子顕微鏡「HD-2700」搭載の日立製球面収差補正器や、その自動補正機能、収差補正SEM像やシンメトリーDual SDDなどの特長を受け継ぐとともに、透過電子顕微鏡HFシリーズで培ってきた技術を結集・融合しました。 ハイエンドユーザーをはじめ幅広いユーザー向けに、サブÅレベルの空間分解能と高分析性能を、より多様な観察・分析手法とともにご提供します。 0.078 nmのSTEM空間分解能や、高試料傾斜・大立体角EDXを、シングルポールピースで実現しました。 走査透過電子顕微鏡「HD-2700」搭載の日立製球面収差補正器や、その自動補正機能、収差補正SEM像やシンメトリーDual SDDなどの特長を受け継ぐとともに、透過電子顕微鏡HFシリーズで培ってきた技術を結集・融合しました。 ハイエンドユーザーをはじめ幅広いユーザー向けに、サブÅレベルの空間分解能と高分析性能を、より多様な観察・分析手法とともにご提供します。 *2ndモニタオプション付き、モニタ画面は、はめ込み合成です。 価格:お問い合わせください 取扱会社:株式会社 日立ハイテク 特長 • 日立製照射系球面収差補正器(自動補正機能付き)を標準搭載 • 高輝度・高安定コールドFE電子銃を搭載 • 鏡体や電源等の高安定化による本体性能向上 • 収差補正SEM/STEM像同時観察と、原子分解能SE像観察 • 新型サイドエントリー試料ステージ機構、試料ホルダの採用 • 大立体角EDX*のデュアル対向配置(シンメトリーDual SDD*)に対応 • 新構造の本体エンクロジャー・カバーを採用 • 各種日立製高機能ホルダ*をラインアップ 高輝度コールドFE電子銃×高安定化×日立製球面収差補正器 長年の実績のある高輝度コールドFE電子源の技術をベースに見直しを行い、電子銃のさらなる高安定化を実現しました。 さらに、サブÅの像観察に対応すべく、鏡体、電源系、試料ステージを一新し、機械的・電気的安定度を高めた上で、日立製照射系球面収差補正器と組合せました。 より高輝度で細いプローブが、より安定して得られるだけでなく、自動収差補正機能により迅速に補正が行え、装置本来の性能を容易に引き出せます。収差補正をより実用的にご利用いただけます。 大立体角EDX*のシンメトリーDual SDD*に対応 100 mm2 SDD検出器のデュアル配置に対応し、さらに高い感度とスループットでEDX元素分析が行えます。 2本目の検出器は、1本目の検出器に対して対向位置に配置されるため、試料傾斜によるX線トータルでの信号検出量の変化がほとんどありません。そのため結晶性試料であっても、信号量に気兼ねなく、試料方位の合った状態で元素分析が行えます。 また、電子線に弱い試料や、X線放出量の少ない試料、原子カラムマッピングにも有効なほか、低倍広視野での高精細マッピング等にもご利用いただけます。 収差補正SEM像/STEM像 同時観察 二次電子検出器を標準搭載しており、収差補正SEM/STEM像の同時観察が行えます。試料表面と内部構造の同時観察により、3次元的な試料構造の把握が可能です。 収差補正SEM像では、球面収差補正による分解能向上に加え、試料表面のより忠実な像が得られます

見本市

この販売者が参加する展示会

36th Control 2024
36th Control 2024

23-26 4月 2024 Stuttgart (ドイツ) ブース 7103

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    The Advanced Materials Show

    15-16 5月 2024 Birmingham (イギリス)

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    *価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。