CellaCrystal PX 44 は、Si および SiC 結晶の製造における光学式温度測定用に開発されました。校正は特に成長プロセスに合わせて調整されています。測定範囲全体にわたって常に 0.1 K 未満の高分解能を実現するハイブリッド信号評価と、均一光センサー技術による非常に高い長期安定性により、この装置は求められる測定精度に対する高い要求を満たします。
特集:
PX 44 AF 4: シリコン結晶製造用の特殊校正
PX 44 AF 4: シリコンカーバイド製造用の特殊校正
高い計測分解能のためのハイブリッド信号評価
自己発熱が最小限であるため長期にわたって高い安定性
測定距離を正確に調整できる焦点調整可能なレンズ
標準機能: IO-LINK インターフェースとアナログ出力