- プロセスガスのサンプリングと希釈用加熱式ガスサンプル希釈プローブ
- 希釈比30:1を標準とし、オプションで10:1~500:1も可能
- 希釈ガスプレヒーターにより、希釈ガスをサンプルプローブ温度まで予熱
- 臨界オリフィス付き希釈ユニットをサンプルプローブの加熱部に設置
- サンプルプローブでのテストガス接続
- ガスサンプルプローブSP2000Hをベース
- フィルターハウジングと取付フランジはステンレス製で、最高180 °Cまで加熱可能です。180 °C [356 °F] まで加熱可能です。
- フィルター気孔率2 µmのセラミックフィルターエレメント
- 耐候性保護カバー付き
- 簡単な取り付けと低メンテナンス
- デッドボリュームが少ない
- 電源: 230 V
- 試料接触部の材質:ステンレス鋼、石英ガラス、バイトン®、セラミック
- オプション:アドオンセットA(精密圧力コントローラー1台と真空圧力計2台付き)、コントロールパネルS(圧力コントローラー1台と圧力計2台、流量計1台、シャットオフバルブ2台付き
電気加熱式M&C希釈プローブは、測定手順やプロセスガスの取り扱いが、サンプルガスや測定対象成分の希釈を必要とするプロセスで使用されます。M&C希釈プローブSP2000H/DIL...は、実績のあるM&CガスサンプルプローブSP2000Hをベースにしているため、特殊なフィルター技術や材料などを必要とする様々なアプリケーションに、この希釈プローブで問題なく対応することができます。
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