ガス採取プローブ SP2000-H320/DIL-BR

プロセス加熱ステンレス鋼製

-プロセスガスのサンプリングおよび希釈用加熱ガスサンプル希釈プローブ -真空運転中の応答時間を短縮する加熱バイパスインジェクター付き -プロセスへのガス再循環を内蔵したバイパスインジェクター -希釈比30:1を標準とし、オプションで10:1～500:1まで選択可能 -希釈ガス・プリヒーターは、希釈ガスをサンプルプローブ温度まで加熱します。 -臨界オリフィス付き希釈ユニットをサンプルプローブの加熱部に設置 -サンプルプローブでのテストガス接続 -ガスサンプルプローブSP2000Hをベース -ステンレス製フィルターハウジングと取り付けフランジは加熱可能 -フィルター気孔率2 µmのセラミックフィルターエレメント -耐候性保護カバー付き -容易な設置と低メンテナンス - 低デッドボリューム -試料接触部の材質：ステンレス鋼、石英ガラス、グラファイト、セラミック -オプション：アドオンセットA1（精密圧力コントローラー2台、真空圧力計3台付き）、コントロールパネルS1（圧力コントローラー2台、圧力計3台、流量計1台、シャットオフバルブ2台付き 電気加熱式M&C希釈プローブは、測定手順やプロセスガスの取り扱いが、サンプルガスや測定対象成分の希釈を必要とするプロセスで使用されます。M&C希釈プローブSP2300H/DIL...は、実績のあるM&CガスサンプルプローブSP2000Hをベースにしています。