光起電性貯蔵マシン SPECTOR-HT®

イオン ビーム補佐

光学コーティング向けのSPECTOR-HTイオン ビーム スパッタリング システム 物理蒸着速度でのイオン ビーム光学膜 受賞歴のあるSPECTOR-HT先進イオン ビーム スパッタリング システムで実現する高水準の生産性とスループットにより、高品質な光学薄膜が生まれます。当社の性能実証済みの SPECTOR® イオン ビーム システム ファミリを基礎とする SPECTOR HT システムは、優れた膜厚制御、抜きん出たプロセス安定性、および公表されている範囲では業界最小の光学損失を実現します。 SPECTOR HTは、バンドパス フィルタからビーム スプリッタ、レーザー パッシブに及ぶ最先端の光学干渉コーティング用途向けに、ターゲット原料の利用率、光学エンドポイントの制御、プロセス時間などの重要な製造パラメータの向上を目的として設計されています。SPECTOR HTは、イオン ビーム スパッタリング（IBS）技術の質的優位性を、大幅なスループット向上と所有コスト削減を実現する堅牢な製品パッケージで製造業界の皆さまにお届けします。この優位性として、散乱損失の低減、薄膜純度の向上、蒸着速度の安定化、0.1 nmを下回る膜厚制御などがあります。 スループットの向上 - 蒸着速度の向上とロット サイズの引き上げにより、最大400%のシステム スループット向上 原料利用率の向上 - 最大300%のターゲット原料利用率の向上により、保守の簡素化と総所有コストの削減が可能 薄膜の均一性向上 - IBS プロセス技術本来の優位性と相まって、最適化したツール ジオメトリにより、原料の均一性に 50% の向上をもたらします。 プロセスの柔軟性を目指す技術により、SPECTOR HTは、様々な方法でプロセスの柔軟性向上を実現します。この向上には、作業性に配慮した最新世代のプロセス制御システム、プロセスの選択肢を広げる豊富なロット サイズ、システムの無人稼働を可能にする安定した蒸着速度などが貢献しています 名誉ある 2013 年度 R&D 100 賞を受賞