MCVDとは、Modified Chemical Vapor Depositionの略称で、改良型化学気相成長法と訳されている。プレハブロッドの製造方法として、1970年代初頭に米国のベル研究所とサザンプトン大学によって提案され、1973年に米国のベル研究所によって発明された。
MCVD装置は、さまざまな種類のプリフォームを準備できる強い柔軟性に鑑み、通信用光ファイバーの高品質プリフォームを製造する4大方式の1つとなり、センシングやレーザー用の特殊光ファイバープリフォームの製造分野でも幅広く応用されています。
MCVD法は、石英管(通称ライナー)の内壁に、より純度の高い二酸化ケイ素(SiO2)を高品質(高純度、低水分、低不純物)で蒸着できる。 その他、屈折率やガラス粘度を変えることができる高純度物質、二酸化ゲルマニウム(GeO2)、五酸化リン(P2O5)、酸化ケイ素フッ化物(SiO1-5F)などetc、をドープして屈折率の異なるコアとクラッドを形成し、光信号がファイバコア内を伝播する際の全反射、低損失、高容量を実現する。
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