HORIBAの監視システム

... 洗浄やエッチングなど半導体製造工程で使用される薬液を測定する光ファイバ式薬液濃度モニターです。 最先端ウェットプロセスに必要不可欠な高温薬液のダイレクト測定を実現。“迅速・安定・省スペース”を実現し、薬液管理の効率化・高精度化が可能です。 高温薬液の安定測定 優れた光学系、演算処理により、ふらつきがちな高温薬液（20～80℃）の安定したダイレクト測定が可能です。また、ユーザー側での薬液の冷却を必要としません。 最大6薬液種（薬液またはレンジ）に対応 1台のモニターで最大6薬液種（薬液またはレンジ）の測定が可能です。測りたい薬液種やレンジを自由に指定できるので、測定ニーズに幅広く対応します。 レイアウトフリー ...

... 半導体製造工程で使用される混合液の各成分濃度を高精度に測定可能な薬液濃度モニターです。 商標薬液をはじめ、多成分薬液のコントロールに最適です。半導体製造工程の品質管理の強化や薬液管理の精度向上に貢献します。 多成分薬液に対応 最大8成分の混合薬液の高精度測定が可能です。 必要試薬ゼロ 成分分離は試薬を用いない光学式の測定方法となっているため、生産プロセスのコスト削減にも貢献します。 ...

... 試薬の消費量を従来の1／5に低減。試薬のランニングコストを大幅に削減できます。 最大6点までの測定が可能 (オプション) 測定ポイントは1～6点まで任意に設定できます。一台でより多くの多点計測をサポートします。 動作異常を 監視する自己診断機能 試料水や試薬の注入、校正異常、セル内温度モニタ、光源異常など動作の異常を自己診断。エラーがあれば警報ランプ表示とともに文字表示でもメッセージを送ります。 交換不要の半永久的光源を採用 ...

... 1測定あたり 500μL(Lの100万分の1)という極めて微量なサンプリング量で測定が可能で、半導体洗浄/エッチング工程、食品製造工程、製薬工程、バイオプロセスなど、pHの連続 監視が必要なあらゆるプロセスにご活用いただけます。 微量サンプルで連続測定可能 1 測定あたりのサンプル量は 500μL (最大30mL/h)であり、サンプリング測定と比較して廃棄量を大幅に減らせます。また、データ更新は最短1分毎です。 自動校正・メンテナンスフリー ...

... 約100種類以上のアプリケーションの中から薬液に最適なモデルを選択可能です。各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングをお知らせ。短い測定周期の実現により、濃度変化に対しても忠実に追従します。 リアルタイムの濃度追従性 約3秒の測定周期で300mmプロセスの濃度管理を実現。様々な方式の洗浄装置のきめ細かな濃度管理をサポートします。 簡単管理 測定はフルオートで、測定開始後の制御は一切不要です。ユーザーは薬液を導入するだけという簡単管理を実現しました。また、参照スペクトル測定は空気を使用するため、日常測定ではユーティリティとしての水は不要です。 ...

... 堀場アドバンストテクノ）は、薬液モニタリング シス テムの新製品「CS-1000」を発売した。 半導体製造プロセスで使用される薬液の濃度をリアルタイムに測定する分析装置CSシリーズは、1995年の発売以来、約30年にわたり業界のニーズに応えてきた。 今回発売する「CS-1000」は、吸光度、導電率、pHを組み合わせた独自のアルゴリズム（特許出願中※2）により、薬液中に微量（ppm※1レベル）に存在する特定の化学物質を、前処理なしで検出できるスタンドアロン型 シス テムとして性能を向上させました。濃度（最大8成分 ...