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体積流量: 0 l/min - 0.1 l/min
動作温度: 0 °C - 80 °C
耐圧力: 1.1 bar - 3.5 bar
... 半導体製造における ガス制御はプロセス結果を左右する重要な要素の一つです。近年は先端半導体デバイスの微細化・三次元構造化といった進化に伴い、生産性や歩留まり向上へ寄与する ガス制御性能の改善要望が日々高まってきています。堀場エステックはCRITERION™シリーズの最新機種として「D700」を開発し、流体計測制御技術を通して更なる顧客満足を目指します。 装置上での ガスおよび 流量の仕様変更が可能 プロセス最適化のための柔軟性を提供します。 ...
HORIBA STEC
動作温度: 0 °C - 80 °C
耐圧力: 0.13 bar - 4 bar
繰返し精度: 0.01 % - 0.3 %
... 制御アプリケーションのために特別に設計された新しいリストリクタを設置します。D700WRは、ユーザーが ガス供給システムの柔軟性を最適化するのに役立つ、フルスケール範囲の0.1%まで 流量を制御することができます。例えば、大 流量と小 流量の制御用に複数のMFCを設置する場合、ユーザーはMFCの数を減らし、同じ位置の別のMFCを別の目的に使用することができます。 0.1～100% ...
HORIBA STEC
動作温度: 0 °C - 80 °C
耐圧力: 3.5 bar - 7.5 bar
繰返し精度: 0.03 % - 0.3 %
... 。PI機能、マルチ ガス・マルチレンジ・マルチプレッシャー機能、自己診断機能を備え、±1% S.P. の高精度と応答速度0.8秒を実現しています。 特長 PI機能 （Pressure Insensitive） 急激な圧力変動においても、安定した 流量制御を可能とする最新のアルゴリズムを搭載し、各 ガスラインの圧力制御機能を省くデザインが可能。 ガスラインのシンプル化を実現します。 マルチ ガス・マルチレンジ・マルチプレッシャー機能 ユーザーサイドで「 ガス種」、「フルスケール 流量」、「供給圧力レンジ ...
HORIBA STEC
動作温度: 15 °C - 45 °C
耐圧力: 2.4 bar - 4.12 bar
... D700Tは、クリティカルな半導体製造プロセ ス用に設計されたベストパフォーマンスマスフローモジュールです。圧力ベースの 流量計測・制御技術を採用しており、業界をリードする再現性と正確なパフォーマンスを提供します。さらに、独創的な特許登録済みの高度な 流量制御アルゴリズム・ツインバルブ構造を搭載しており、 ガス供給システムが抱える複数の課題を解決することが可能です。 ...
HORIBA STEC
動作温度: 15 °C - 60 °C
耐圧力: 2.4 bar - 3.5 bar
... D700Tは、クリティカルな半導体製造プロセ ス用に設計されたベストパフォーマンスマスフローモジュールです。圧力ベースの 流量計測・制御技術を採用しており、業界をリードする再現性と正確なパフォーマンスを提供します。さらに、独創的な特許登録済みの高度な 流量制御アルゴリズム・ツインバルブ構造を搭載しており、 ガス供給システムが抱える複数の課題を解決することが可能です。 ...
HORIBA STEC
体積流量: 0.1, 0.3 l/min
耐圧力: 0.5 bar - 4 bar
繰返し精度: 0.15, 0.01 %
... パフォーマンスに大きく影響します。 流量精度、再現性、応答性能、パーティクルレスなど必須の性能を備えたSEC-Z700S SeriesがAtomic Levelのエッチング、成膜プロセスにおける多種多様な要求に対応します。 流量精度 ±1％S.P.保証(設定 流量5〜100％F.S.(N2)) ワイドレンジ制御 低 流量域0.5％F.S.まで制御可能 ...
HORIBA STEC
... 半導体製造における ガス制御はプロセス結果を左右する重要な要素の一つです。近年は先端半導体デバイスの微細化・三次元構造化といった進化に伴い、生産性や歩留まり向上へ寄与する ガス制御性能の改善要望が日々高まってきています。堀場エステックはCRITERION™シリーズの最新機種として「D700」を開発し、流体計測制御技術を通して更なる顧客満足を目指します。 装置上での ガスおよび 流量の仕様変更が可能 ...
HORIBA STEC