イオン源

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質量分析計用イオン源
質量分析計用イオン源
DPiMS™ QT

... 概要
DPiMS™ QT プローブ式電気噴霧(ESI)イオン化キットは、四重極飛行時間型(Q‑TOF)質量分析計に取り付けてプローブから直接ESIを行えるようにする装置です。非常に少量の試料を選択して導入できるため、迅速なMS解析が可能で、ラボや臨床環境でのESIワークフローへの切替を簡素化します。

製品タイプ
質量分析計用プローブ式電気噴霧イオン化キット(直接ESIインターフェース)。

特徴

  • 簡易前処理:試料の前処理が最小限で解析を開始でき、日常ワークフローの処理時間を短縮します。
  • 迅速な解析:四重極TOFシステムとの接続に対応し、高分解能質量測定をサポートします。
  • 低い試料残留と高い安定性:プローブに付着する試料はごく僅かで、質量分析計の汚染リスクを低減します。
  • ソフトウェア統合:PESI
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質量分析計用イオン源
質量分析計用イオン源
IonDrive Turbo V

... SCIEX 質量分析計が、エキサイティングな発見や重要なルーチン検査に最適な卓越した装置である理由は何でしょうか?その答えはイオン源です。Turbo V シリーズは、エレクトロスプレーイオン化(ESI)と大気圧化学イオン化(APCI)の両方を備えています。 より高い生産性を提供する卓越した堅牢性 複雑なスプレー経路を持たないシンプルなイオン源構造と直交スプレー設計により、均一な温度分布と最適化されたカーテンガスフローを提供し、堅牢性と耐久性を向上させます。 シンプルなプラグアンドプレイイオンソース設計 工具不要のソース設計により、プラグアンドプレイが可能で、メンテナンスはほとんど不要です。 イオン化効率を高めた高感度 IonDrive ...

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SCIEX
質量分析計用イオン源
質量分析計用イオン源
CaptiveSpray

... トラップドイオンモビリティスペクトロメトリー(TIMS)の中核には、究極の性能とシンプルさを実現するCaptiveSpray 2とCaptiveSpray Ultraイオン源があります。 卓越したパフォーマンス CaptiveSpray 2とCaptiveSpray Ultraにはナノフロー感度をできるだけ利用しやすくするための快適な機能が多くあります。 優れた互換性 すべてのPepSep、IonOpticks、カスタム自作カラムにも対応するシームレスな互換性。 再定義されたシンプルさ 「オンオフ」設計により、数秒で簡単に取り付け可能。 完璧な精度 ゼロデッドボリューム接続と正確な10 ...

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Bruker Daltonics
質量分析計用イオン源
質量分析計用イオン源
ChemZo

... アンビエントコロナ放電技術に基づく革新的なイオン源。 これまで困難であった液体や固体の直接測定、ガスのリアルタイム測定が可能。 ChemZoは、これらの課題を解決します: - 希釈や溶媒抽出など、時間のかかるサンプル前処理。 - 官能評価と測定値の不一致。 - 芳香族化合物の持続時間の可視化 - サンプル加熱時のフレーバーリリースの測定 - 原料や樹脂に含まれる添加物の迅速な分析 - 異物混入の迅速な特定 ChemZoには2つの測定モードがあります: モード1.温度勾配装置を使用した固体測定モード サンプルを室温から600℃まで加熱できる温度勾配装置を使用することで、ChemZoはさまざまな温度範囲での成分検出を可能にします。これにより、1回の測定で熱脱離から熱分解までのスペクトル情報を得ることができる。このモードは、プラスチック容器などの材料分析に特に有効です。 成分が沸点ごとに順次気化するため、データ処理が容易です。 高沸点化合物を確実に気化させることができます。 - ...

イオン源
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FDG15

... 仕様 エネルギー範囲 400 eV ~ 5 keV (10 eV オプション) 最大ビーム電流 > 10 μA @ 5 keV > 100 nA @ 15 eV (10 eV オプション) ビーム直径 300 μm と 2 ′′ @ 5 keV インテグラルポートアライナー あり 陽極酸化 イットリウムコーティングタングステン (オプション) イリジウムフィラメント 作動距離 30 mm-300 mm 挿入深さ 173 mm チャンバー圧作動中 5x10-7 mbar-1x10-8 ...

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SOLUS™

... SOLUS DC イオン ソース コントローラ 業界有数のVeeco DCグリッド イオン ソース用電源供給システム VeecoのSOLUS™ DCイオン ソース コントローラは、最先端の高精度コントロール システム設計がなされているため、あらゆる種類のプロセスで信頼性が高く安定した電力をイオン ソース動作用に提供します。統合電源モジュールおよび比率調整可能なガス流量制御により、要求の厳しいプロセス環境においても最適なイオン ソース制御が可能です。 使いやすいワンボタン操作 手動、自動、およびリモートの動作オプション 最先端制御によるプラズマ安定性の向上 設定可能な統合ガス流量制御 カスタマイズ可能な制御設定による適応ソース動作 時間短縮のためのトラブルシューティング機能 便利なイベント/ステータス ...

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VEECO
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ION 300F 450/105

... 高い性能 - 優れた技術力 ION 300Fは、スキャニング用途に合わせてX線ビーム形状を最適化した高精度なX線撮影システムです。また、高品質のメタルセラミック製X線インサートを搭載しており、精度と製品寿命の向上を実現しています。ION 300Fファン・ビーム・システムは、空冷式または空冷・水冷併用式があり、さまざまな気候環境に対応します。 コンパクトで軽量なため、設置が容易 ON 300Fは、管球ヘッドとコントロールユニットが分離しているため、コンパクトかつ軽量で、どのような向きでも取り付けられるなど、組込みが容易なX線装置です。アライメント機能により、他のシステム・コンポーネントとのスムーズで正確な位置合わせが可能です。また、内蔵の安全設定により、あらゆるシステムの安全コンセプトに簡単に組み込むことができます。ION管球ヘッドとコントロールユニットのX線発生器/装置は、専門的なトレーニングを受けることなく交換することができ、最大限の稼働率を確保します。 スピードと正確さ ...

イオン源
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Endeavor RF

... デントンの Endeavor RF イオンソースは、フィラメントなしで動作するように設計されており、単一の抽出グリッドを使用します。このRFイオンソースは、イオンビームの空間電荷を中和し、チャンバー内の空間電荷アークを除去するのに十分な量の電子を取り出すことができるので、ホットフィラメントや中空陰極などの補助電子中和器を必要としない。 の研究・製造。 光デバイス フォトニクス 磁気デバイス、マイクロエレクトロニクスデバイス 特定のエネルギー、化学反応性、電流密度および軌道を持つイオン種を生成および制御する能力により、イオンソースは精密な薄膜および表面を作成するための有効なツールとなっています。高密度化、光学透過率、臨界膜厚均一性、滑らかな界面、接着性の向上、垂直な側壁などは、薄膜蒸着中にイオンソースによって実現される、求められている材料特性の一部です。 デントンは、自社開発したCC-106イオンソースを提供しています。CC-106は、酸素またはアルゴンを使用したイオンアシスト蒸着およびプリクリーニングプロセス用に設計された広ビーム冷陰極DCソースです。 フィラメントフリーのEndeavor ...

質量分析計用イオン源
質量分析計用イオン源
IG5C

... 超高真空表面分析用5keVカエシウムイオンガン IG5Cは、低電力、高輝度、表面電離ソースをコンパクトなイオンカラムに結合し、小型パッケージで高性能を実現しています。このガンは、ダイナミック、スタティック、イメージングなど、あらゆるSIMSアプリケーションのための一次イオンビームとして設計されています。 薄膜光学コーティング 電子材料 Windows PCベースのインターフェースで制御され、ソースの熱管理も行うこのガンは、セットアップが簡単で再現性が高く、大電流または小スポットアプリケーション用に設定することが可能です。また、LabVIEW用のドライバも用意されており、他のシステムへのOEM統合も可能です。 空気中で安定したイオン源 小型マウントフランジで柔軟な設置が可能 セルフアライメント交換用ソースの容易な取り付け 長いソース寿命 真のUHVチャンバー圧を維持するための差動ポンピング 2つのレンズカラム設計 ビームを定義するアパーチャーの交換が容易 ...

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Hiden Analytical
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