温度: 950 °C
... その他の用途としては、熱処理、焼成、乾燥、バルク材料（粉末、顆粒、繊維、廃棄物）の熱分解などが考えられる。 最も重要な特性 完全自動運転 工業用回転式管状炉 4つの加熱ゾーン 最大加熱パワー81 kW 気密性 調整可能な炉傾斜角度 0 - 15°、最高回転速度 5 min-1 容易な操作 FeCrAl発熱体による抵抗加熱 配管漏れの監視 金属製インサート管 (1.4841) 高品質ASW断熱ボードの断熱 高いエネルギー効率 振動コンベアによる充填 窒素ガス供給装置 不活性ガス雰囲気下での冷却プレートと冷却ベルトによるカスケード式製品冷却 以下を可能にします。 Linn ...
温度: 0 °C - 1,050 °C
... ベルファーネス 半/全自動または手動 - システム 250/251 機能的に分離されたステーションとダイレクトクエンチトランスファーを備えたモジュール式のベルファーネス。 炉からタンクへの装填のための急冷移送システムは、フック機構を使わずに装填物をスライドさせるだけで行われます 炉-クエンチタンク間の移動時間は15秒以下 様々なクエンチオプションを統合し、炉とタンクの組み合わせのバリエーションが拡大 既存ラインの拡張が容易で、容量や処理の両面で新たな要求にも対応可能 熱処理パラメータ（温度、雰囲気）の柔軟性が求められる中・少量生産の部品や、変形の恐れがある薄肉・長尺部品の生産に特に適しています。 負荷を急冷する前に、温度を落とさずに大気下で急冷することが可能 ...
温度: 900 °C - 1,000 °C
容量: 26 l - 1,450 l
幅: 300 mm - 1,100 mm
... 空気中、水中、油中、様々な急冷方式を提供します。チャージのクエンチは、空気中または慣性ガス中で行うことができます。 チャージは空気または慣性ガスで急冷されます。システムは手動または自動にすることができます。 プロセスに合わせて設計 空気循環 クエンチングタンク 高速ドア開閉 カスタマイズされたローディング 二重の水揺れシステム 炉のカスタマイズが可能 ...
Heldors
温度: 0 °C - 750 °C
容量: 32, 77, 96, 150 l
... 不活性ガスによる熱処理のためのSistem Teknik 真空焼戻し炉。 処理された部品は、高品質の表面を有する 特徴 ステンレス鋼レトルト 真空パージ5x10-2 mbarsまで 焼戻しおよびアニ ールのための雰囲気を保護する最適な熱伝達のための高い内部対流の温度均一性は ± 5 ℃ より優れています 様々な レシピの 温度は750 ℃ のセラミックブロックと繊維絶縁ホットゾーン 電気またはガス加熱までです ...
... Consarc 電極エスチェンジ ESR 炉は、複数の電極を 1 つずつ直列に使用して、単一の大きなインゴットを形成します。 電極交換炉は、常に2つのESR 炉ヘッドを使用し、2つのヘッドの間にある静電気メルトステーションまたは引き出しメルトステーションのいずれかに交換するように設計することができます。 多 くの場合、これらの炉には1つまたは2つの「サイド」溶融ステーションがあり、単一の電極から1つのインゴット構成でより多くの標準製品を溶融する際に生産性が向上します。 ...
... 高品質の設計と簡単な操作 不活性な雰囲気を維持する 内部蒸気タイトな 溶接と密閉ライナープロセスチャンバと断熱材との間の不浸透障壁のための 水平空気の流れは、すべての負荷条件下で均一な熱性能を保証します 差動空気圧スイッチは、圧力の損失または風量の損失が検出された場合に警告します カスタムテストのニーズのための複数のモデルオプション 簡単なインナーチャンバクリーニングのためのクイックアクセス 使いやすいコントローラ ...
Thermal Product Solutions
温度: 5 °C - 200 °C
容量: 55 l
幅: 330 mm
... LABWIT強制乾燥オーブンは、200℃までの単純なガラス器具の乾燥滅菌用途から、エージング、接着、硬化、熱処理アニーリング、応力除去、バーンイン、硬化試験などの複雑な制御加熱用途まで、お客様の日常業務のために設計されています。 LABWITは、温度のオーバーシュートを最小限に抑え、正確な温度均一性を提供するよう設計されたZXRDシリーズのバックヒーターを提供しています。すべての200℃モデルにおいて、オーブンにはLCDコントロールパネルが装備され、18ステップの温度と時間セグメントで最大9種類のプログラムを実行することができます。 特徴 強制対流方式と立体加熱方式により、空気循環と熱分布を確保。 9セグメント、18ステップのPIDマイクロプロセッサーコントローラー。 大型LCDディスプレイ（200℃モデルのみ）。 アルゴン封入強化安全ガラス窓（200°C ...
温度: 800, 1,000 °C
... 真空アニーリング炉は、高温、高真空、および強い磁場環境での柔らかい磁性材料の加熱およびアニーリングに適しています。 真空アニーリング炉は、高温炉、高温炉加熱電源、Labview制御ソフトウェア、電磁石、高精度バイポーラ定温度電源、分子ポンプユニットで構成されるフィードバック調整加熱システムです。と水冷ユニット。 アニーリングプロセス:強い磁界 (または非磁気) の環境でサンプルを熱して下さい。 特定の温度に加熱された場合 (ユーザーはニーズに応じて設定できます) 、一定の磁場を追加し、一定期間温度を制御し続け、磁場が一定のときに停止します。 ...
温度: 1,800 °C
... 管状炉は、ガス/真空雰囲気下でのサンプルテスト用に設計されており、カスタマイズされたサイズと水冷式フランジのオプションが用意されています。炉の最高設計温度は1800℃までです。 様々なアプリケーションには、エージング、アニーリング、ブレージング、カルシネーション、触媒研究、CIM、コーティング、CVD、脱ガス、乾燥、硬化、MIM、ミニプラント、熱分解、焼結、はんだ付け、昇華、合成、焼き戻し、テスト燃料電池、熱電対校正などがあります。テンペンス社は、様々なサイズの管状炉、1800℃までの温度範囲の管状炉を幅広く取り揃えています。 標準機能 - ...
温度: 1,200 °C
... Tempsens Split Tube Furnaceは、水平方向に配置されたチャンバーと、2つに分割された炉体を備えています。炉を開くことができるので、作業管の交換が容易で、リアクターのような容器をフランジで挿入することができますが、これはスプリットタイプ以外の炉では不可能です。作業管の交換が容易なため、様々な管径の炉に対応できます。オプション機能により、作業環境を真空や特定のガス環境（不活性ガス）に変更することができます。 テンペンスのスプリットチューブ炉には、単一の加熱ゾーンから、グラデーション加熱を取り入れた複数の加熱ゾーンがあります。テンペンスは、ISOとCEを取得したラボラトリー＆インダストリアルファーネスのメーカーとサプライヤーです。 標準機能 ...
温度: 10 °C - 200 °C
容量: 24, 51, 91, 125, 216 l
幅: 760, 445, 580, 610, 660 mm
... 実験用真空オーブンは、タンク内の真空度を一定に保ち、沸点を下げ、不活性ガスの供給も可能です。 熱に弱く、分解しやすく、酸化しやすい物質の乾燥用に特別に設計されています。 乾燥速度が速く、汚染が少ないため、製薬、食品、化学、エレクトロニクスなどの業界で広く使用されています。 制品の詳細 実験用真空オーブンは、タンク内の真空度を一定に保ち、沸点を下げ、不活性ガスの供給も可能です。 真空オーブンは、熱に弱く、酸化しやすい物質の分解と乾燥のために特別に設計されています。 乾燥速度が速く、汚染が少ないため、製薬、食品、化学、エレクトロニクスなどの業界で広く使用されています。 人間味のあるデザイン ●予約機能とタイミング機能を備えた真空ラボオーブンは、待つ必要がなく、実験の効率を効果的に向上させます。 ● ...