超高真空炉

... ベクターHVは、ガス冷却方式を採用した水平または垂直配置のシングルチャンバー式高真空炉で、多様な熱処理プロセスや用途に対応します。熱処理部品の高均一性、プロセスの高清浄度、作業量の高均一性、および電力とプロセスガスの低消費による効率的な処理を実現する重要な機能を提供します。 ベクターHV炉は丸型グラファイトまたは金属製のホットゾーンを装備し、プロセス純度および部品表面品質の点で要求の高い熱処理に理想的なソリューションです。 特徴 / 高真空処理 - 最大 10-8 mbar / 動作温度 - ...

... 真空溶解技術と装置 真空冶金装置は、高溶融・鋳造技術の需要が最も高い地域である米国、ポーランド、中国の施設で製造されています。2006年以降、レテック社の戦略的買収により、当社は世界中のお客様に溶解炉と熱処理炉の分野で包括的なソリューションを提供しています。当社のお客様は、企業合併による相乗効果の恩恵を受けています。 電子ビーム溶解は、広範囲の特殊金属を対象とした実績のある精錬技術をユーザーに提供します。レテックの電子ビーム(EB)炉は、Von Ardenneガンとコールドハースの使いやすさと低メンテナンス性を利用して、密閉された真空チャンバー内で反応性金属や耐火性金属を溶解します。コールドハースは水冷式のクーパー容器で、酸素などの汚染元素を含まず、コールドハース精錬プロセスで高濃度および低濃度の介在物を除去することにより、クリーンで介在物のない金属を生成します。電子ビーム炉は、実験室規模のものから数トンのものまで、幅広いサイズで設計することができます。当社の電子ビーム炉は、お客様のニーズに合わせて、1つまたは複数のガン、供給システム、引抜室を構成することができます。当社はこれらのお客様と積極的に協力して、上流および下流の部品、合金およびアプリケーション開発を含む必要な装置およびプロセスソリューションの開発を行っています。電子ビーム技術の世界的リーダーであるVon ...

温度: 650 °C

... ユニバーサルチャンバー炉 VAB 高真空炉およびローディングシステム - VAB 2xX 装入装置付きVABチャンバー炉は、アルミニウムの真空ろう付け専用装置です。フラックスを必要としない効果的で効率的な技術(ノーフラックス技術)を採用することで、再現性のある結果を確保しながら環境安全性を大幅に向上させることができます。このソリューションは、高い加熱均一性を保証し、発熱体の最適な配置により生産不足を最小限に抑え、各バッチロケーションの一貫した条件の維持を容易にします。 装入装置付きVABチャンバー炉は、高真空を達成する高性能システムと最適化された加熱室を備えています。設計された構造とヒーター構成により、特に熱交換器のろう付けに高品質の部品を提供します。 VAB ...

... トップキャストTVMは、あらゆる種類の合金を高真空下で溶解・注湯するために設計された、密閉環境の誘導炉です。 特に、チタン、TiAl、Zr、ニッケルベースの合金のように反応性金属が関与する場合には TVM が最適です。 Co、Cr、MoおよびPGM合金は、TVMの典型的な使用例です。 説明 TVM炉は概念的に4つのサブシステムに分かれています： 1.真空溶解室とオプションの合金供給室 2.誘導発電機 3.傾斜コイルとるつぼアセンブリ 4.メタルまたはシェル鋳造金型 TOPCASTは、るつぼ容量、鋳型サイズ、真空レベルに関するカスタマイズされた仕様の下で、このクラスの炉を開発しています。 ...

温度: 0 °C - 1,750 °C

... 当社の超大型熱処理炉は使用可能ゾーンが8立方フィートあり、最高温度は1750 °C (3200 °F)です。高負荷容量、16″または20″の拡散ポンプシステム、急速冷却用ガス熱交換器が特徴です。 ホットゾーンは、タングステン、モリブデンまたはタンタル棒状発熱体から製造され、優れた長寿命、剛性、均一性、製品適合性を保証します。 炉室は前面と背面にアクセスドアを備え、装入とメンテナンスを容易にします。 大重量の装入物を容易に操作できる装入カートも用意されています。 一般仕様 24″ ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社のボトムローディング式焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、強制冷却、制御酸化から構成されます。この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ (305mm x 559mm)で、大量バッチ処理に適しています。 この炉は2つのチャンバーを備えており、下部チャンバーは装入・取出し、冷却、制御酸化、上部チャンバーは高温焼結を行います。両チャンバーの雰囲気は隔離されており、電動リフトが装入物スタックをボトムチャンバーから加熱チャンバーに移動させます。 ホットゾーンはタンタルまたはタングステンで2100℃まで可能です。 高スループットの10″または16″拡散ポンピングシステムは、製品加熱中に通常見られるロードのアウトガスに対応します。 直感的なカスタマイズされたHMIインターフェースが、最初から最後まで完全に自動化されたサイクルを実行します。 一般仕様 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,100 °C

... 当社の2ステーション焼結炉は当社のボトムローディング焼結炉をベースにしていますが、同時に2つの装入物を処理することが可能で、同じ設置面積で実質的に処理能力が2倍になります。当社の焼結炉は、高温での電子部品の焼結や熱処理用としてエレクトロニクス産業で広く利用されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、急冷、制御酸化から構成されます。 2ステーション炉は2つの装入物を同時に処理し、1つの装入物を高温室で加熱する一方、2つ目の装入物を下室で冷却します。 この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ ...

温度: 2,800 °C
容量: 4 l - 12 l
幅: 140 mm - 200 mm

... 雰囲気制御式チャンバー炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結、溶解、エージング、熱試験、粉末合成、化学分解などの用途で使用され、目的の製品を得るために炉内に保護環境が要求されます。雰囲気制御式チャンバー炉は、アルゴン、窒素、真空、水素などの大気条件下での熱処理用に設計されています。加えて、水冷システムの圧力、炉内温度、炉内気圧、インテリジェントシステムなどがユーザーによって監視され、プロセスの安全性が確保されます。 調整可能な手動式ガス流量計、高圧リリーフシステム、過昇温アラーム、真空ポンプが標準装備されています。 雰囲気制御黒鉛炉は、水素雰囲気、より良い真空条件、金属試料に対応できます。 標準機能 ...

温度: 1,900 °C

... マックス。最高温度(℃)：1900 連続使用温度(℃)：1700 体積（L）：1 真空レベル：10^-4torr ガス流量計。 マスフローコントローラー（CH4とH用に2個ずつ用意） インレットホールKF 25 (合計2個、真空用1個、不活性ガス用1個) 圧力制御。 圧力トランスミッターおよび真空センサー 真空の掃引限界: 10^-4 torr 拡散ポンプシステムは炉に組み込まれます。 真空にした後は、Ar、CH4、Hで加熱プロセスを継続します。 チャンバータイプ垂直および円筒形 加熱室。 ...