Materials Research Furnacesの超高真空炉

温度: 0 °C - 1,750 °C

... を備え、装入とメンテナンスを容易にします。 大重量の装入物を容易に操作できる装入カートも用意されています。 一般仕様 24″ x 24 " x 24″使用可能ホットゾーン (610mm x 610mm x 610mm) 20″高 真空システム より速い冷却のための熱交換器 優れた温度均一性 前後にアクセス可能 大容量 使いやすいHMIコンピューターインターフェース ロードカートおよびその他のオプションあり チャンバーは前面から装填 ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社のボトムローディング式焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、強制冷却、制御酸化から構成されます。この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ (305mm x 559mm)で、大量バッチ処理に適しています。 この炉は2つのチャンバーを備えており、下部チャンバーは装入・取出し、冷却、制御酸化、上部チャンバーは高温焼結を行います。両チャンバーの雰囲気は隔離されており、電動リフトが装入物スタックをボトムチャンバーから加熱チャンバーに移動させます。 ホットゾーンはタンタルまたはタングステンで2100℃まで可能です。 高スループットの10″または16″拡散ポンピングシステムは、製品加熱中に通常見られるロードのアウトガスに対応します。 直感的なカスタマイズされたHMIインターフェースが、最初から最後まで完全に自動化されたサイクルを実行します。 一般仕様 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,100 °C

... 当社の2ステーション焼結炉は当社のボトムローディング焼結炉をベースにしていますが、同時に2つの装入物を処理することが可能で、同じ設置面積で実質的に処理能力が2倍になります。当社の焼結炉は、高温での電子部品の焼結や熱処理用としてエレクトロニクス産業で広く利用されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、急冷、制御酸化から構成されます。 2ステーション炉は2つの装入物を同時に処理し、1つの装入物を高温室で加熱する一方、2つ目の装入物を下室で冷却します。 この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーション式インデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結に適した当社の最高スループットモデルです。4つの装入物が同時に処理され、半連続プロセスの焼結プロセスが形成されます。 炉は直径12インチ x 高さ22インチ (305 mm x 559 mm) の使用可能ゾーンを持ち、この設計は大量のバッチ処理に最適です。 この炉には5つのチャンバーがあり、搬送機構を含むボトムインデキシングチャンバー、搬出入チャンバー、加熱チャンバー、冷却チャンバー、酸化制御チャンバーがあります。通常運転中、すべてのチャンバーは互いに隔離されています。 油圧リフトとモーター駆動のインデックス機構が装入物スタックをステーションから次のステーションへ移動させます。プロセスパラメーターにもよりますが、この炉は45分ごとに焼結装入物を生産します。 ホットゾーンは最高2100℃まで可能で、タンタルまたはタングステンで製造されます。 高スループットの10″または16″拡散ポンプシステムが装入物のアウトガスを処理します。HMIコンピューターインターフェイスは、完全に自動化されたサイクルを最初から最後まで実行し、生産ネットワークと統合して製品追跡とレシピ選択を提供します。 一般仕様 4つの負荷を同時に処理する5チャンバー設計 ローディング、加熱、冷却、酸化の各チャンバーを分離 ホットゾーン ...

温度: 2,300 °C

... 。 金属、セラミックまたはグラファイトのホットゾーン 均一な+/-10 °Cの温度ゾーン。 サンプルサイズに合わせた多様なホットゾーンサイズ ラフまたは高 真空システム ガスシステム：不活性、酸化性、還元性 二重壁、水冷ステンレスチャンバー 完全なターンキーシステム バッチ炉としても使用可能 炉室は試料に隔離された雰囲気を提供し、水冷と優れた 真空性能を可能にする二重壁電解研磨ステンレス製です。外部温度は常に50 °C以下に保たれます。試料へのアクセスは、ヒンジ式フロントカバーで行います。 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 3,500 °C

... 高純度の溶融物が挙げられます。高 真空ターボポンプシステムおよびその他の付属品もご利用いただけます。 仕様 チャンバーがヒンジで戻り、装填が容易。 タングステン電極付き銅スティンガー 直径3.38インチ（85mm）の特注銅製ハースプレート。 直径2.75″（70mm）の覗き窓。 ハロゲンライト付き照明ポート1つ。 電源350アンペア@60%デューティ・サイクル、14 kVA。 水冷式電源ケーブル 圧力開放ポート付き不活性ガスシステム。 水安全インターロック 荒引きポンプ、 真空計、バルブ付きポンプシステム ...

温度: 0 °C - 3,500 °C

... カスタムデザインを提供します。 溶解エリアは直径9.00″(229 mm)のハースキャビティです。アーク溶解炉は極めて純度の高い溶融物を得ることができます。高 真空ターボポンプシステムやその他のアクセサリーも用意されています。 一般仕様 大型ベルジャー、トップローディング構成。 100% 304Lグレードのステンレススチール製 真空チャンバー。 タングステン電極付きの銅製スティンガー カスタム銅製ハースプレート、直径9.0"(230 ...

温度: 0 °C - 3,500 °C

... 水冷安全インターロック。 リリーフバルブ付き不活性ガスシステム 荒引きポンプ、 真空計、バルブ付きポンプシステム。 オプションの高 真空および結晶引上げシステム 詳細 チャンバー チャンバーはステンレス製で、電気研磨により 真空度と外観が良好です。チャンバーは二重壁です。ウォータージャケットがチャンバーを取り囲み、通常使用時のチャンバー温度を50℃（120F）以下に保ちます。チャンバーは10-6Torr（mbar）までの高 真空に対応しています。チャンバーの出し入れは、ヒンジ付きチャンバーを後方に持ち上げて ...

温度: 0 °C - 3,000 °C

... 研究開発またはバッチ炉として使用できます。 交換可能なホットゾーン 高さ5インチ、直径3インチ (140mm x 75mm)の均一で使用可能な+/-10℃の温度ゾーン。 ラフまたは高 真空システム ガスシステム：不活性、酸化性、還元性 物理的試験フレームに取り付け可能 オプション取り付け用のチャンバーポート多数 高 真空システム、可燃性ガスシステム、その他のオプションが利用可能 ...