真空炉

温度: 0 °C - 1,750 °C

... 当社の超大型熱処理炉は使用可能ゾーンが8立方フィートあり、最高温度は1750 °C (3200 °F)です。高負荷容量、16″または20″の拡散ポンプシステム、急速冷却用ガス熱交換器が特徴です。 ホットゾーンは、タングステン、モリブデンまたはタンタル棒状発熱体から製造され、優れた長寿命、剛性、均一性、製品適合性を保証します。 炉室は前面と背面にアクセスドアを備え、装入とメンテナンスを容易にします。 大重量の装入物を容易に操作できる装入カートも用意されています。 一般仕様 24″ ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社のボトムローディング式焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、強制冷却、制御酸化から構成されます。この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ (305mm x 559mm)で、大量バッチ処理に適しています。 この炉は2つのチャンバーを備えており、下部チャンバーは装入・取出し、冷却、制御酸化、上部チャンバーは高温焼結を行います。両チャンバーの雰囲気は隔離されており、電動リフトが装入物スタックをボトムチャンバーから加熱チャンバーに移動させます。 ホットゾーンはタンタルまたはタングステンで2100℃まで可能です。 高スループットの10″または16″拡散ポンピングシステムは、製品加熱中に通常見られるロードのアウトガスに対応します。 直感的なカスタマイズされたHMIインターフェースが、最初から最後まで完全に自動化されたサイクルを実行します。 一般仕様 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーション式インデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結に適した当社の最高スループットモデルです。4つの装入物が同時に処理され、半連続プロセスの焼結プロセスが形成されます。 炉は直径12インチ x 高さ22インチ (305 mm x 559 mm) の使用可能ゾーンを持ち、この設計は大量のバッチ処理に最適です。 この炉には5つのチャンバーがあり、搬送機構を含むボトムインデキシングチャンバー、搬出入チャンバー、加熱チャンバー、冷却チャンバー、酸化制御チャンバーがあります。通常運転中、すべてのチャンバーは互いに隔離されています。 油圧リフトとモーター駆動のインデックス機構が装入物スタックをステーションから次のステーションへ移動させます。プロセスパラメーターにもよりますが、この炉は45分ごとに焼結装入物を生産します。 ホットゾーンは最高2100℃まで可能で、タンタルまたはタングステンで製造されます。 高スループットの10″または16″拡散ポンプシステムが装入物のアウトガスを処理します。HMIコンピューターインターフェイスは、完全に自動化されたサイクルを最初から最後まで実行し、生産ネットワークと統合して製品追跡とレシピ選択を提供します。 一般仕様 4つの負荷を同時に処理する5チャンバー設計 ローディング、加熱、冷却、酸化の各チャンバーを分離 ホットゾーン ...

温度: 200 °C - 1,600 °C

... この高温炉はズウィック・ロエルによって開発されました。 これは、製品の熱弾性挙動、耐熱性、再結晶温度の決定を提供します。 この炉は、少なくとも200 ℃ の温度から異なるオプションを提供し、最大 1600 ℃。空気または真空環境を有する1ゾーンまたは3ゾーン炉は、特定の材料で使用するように提供されている。 高温炉と伸長計は、試験機の快適な操作を可能にするスイベルユニットで構成されています。 また、再設定なしで室温テストにも使用できます。 サンプルの温度を直接測定するには、必要に応じて最大 ...

温度: 1,600, 1,800, 1,700 °C
幅: 390 mm - 1,190 mm
高さ: 510, 620, 670, 720, 680 mm

... カーボライト・ゲロの高温チューブ炉HTRHは最高1800℃で水平使用できます。 低熱伝導率の高品質断熱材が、低エネルギー消費と高速加熱を実現します。断熱材と二珪化モリブデン（MoSi2）ヒータエレメントは長方形のハウジングに納められています。ヒータエレメントは垂直に吊り下げられており、そのため交換が簡単です。高温かつ酸素存在下ではMoSi2は酸化層（SiO2）を形成し、熱的、化学的腐食からヒータエレメントを保護します。 3ゾーンチューブ炉（HTRH-3）はシングルゾーン製品と比較しより高い均熱性を実現します。これらのモデルでは各加熱ゾーンに対して専用の熱電対と温調器が装備されており、システム内の反応に必要なガスを予熱するために特に便利です。 HTRHに作業管は内蔵されていません。作業管は追加アクセサリとして選択します。作業管の長さは用途によって異なり、修飾雰囲気のや真空の使用・不使用によって変化します。 アプリケーション例 ageing, ...

温度: 1,600, 1,700, 1,800 °C
幅: 455, 580 mm
高さ: 365, 515, 765 mm

... HTRV高温管状炉は垂直方向に設計されており、最高温度1800℃までの運転が可能です。 ファイバープレートで構成された高品位の断熱材は、その低い熱伝導率により、低エネルギー消費と高い加熱率を実現します。断熱材と二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体は長方形のハウジングに設置されています。発熱体は垂直に吊り下げられており、簡単に交換することができます。MoSi2は、高温で酸素が存在すると酸化膜を形成し、熱や化学的な腐食から発熱体を保護します。 HTRV管状炉シリーズは、豊富な付属品により、高温での意欲的な熱処理のための完全なシステムソリューションを提供します。 炉はスタンドなしで提供されるので、お客様は自分の装置に組み込むことができます。オプションの「L」スタンドを使用すれば、炉を自立させることができます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 1,200 °C
幅: 485, 645, 795 mm
高さ: 575, 780 mm

... カーボライト・ゲロの新型分割チューブ炉TSシリーズは、高品質の発熱体と革新的な断熱設計が組み込まれており、筐体温度と消費電力の両方を抑えながら最高のパフォーマンスと高い汎用性を実現しています。 TSの炉本体は2つに分割され、後部でヒンジで固定されています。端にあるガスダンパがスムーズな開閉動作を提供します。炉が分割出来ることにより、リアクターなどの容器を用いる場合に分割されていない炉への挿入が困難なエンドフランジを取り付けたまま装備することや、作業管の交換も簡単に行うことが出来ます。 TSシリーズは柔軟性を考慮して設計されています。スライドインアクセサリ作業管とアダプタの使用により、単一の炉でさまざまな直径のチューブに対応でき、プロセスの物理的または化学的要件に合わせて作業管自体を簡単に交換できます。オプションの作業管パッケージにより、ユーザーはTSを真空または修飾雰囲気下の加熱処理に使用することが出来ます。 使用方向 全てのモデルは水平及び垂直に使用することが出来ます。 TS ...

温度: 1,250 °C

... ケースマスター エボリューション(CMe)は、航空宇宙、自動車、機械製造、ベアリング、商業熱処理など様々な産業における幅広いLPCアプリケーションに対応する新世代の密閉焼入れソリューションです。 ケースマスターエボリューションには2つのタイプがあります： / Dタイプと呼ばれる2室炉は、1室が処理用、もう1室がオイルまたはガス冷却用の2つのチャンバーを備えています。 / T タイプと呼ばれる三室炉では、D タイプと同じチャンバーに加え、PreNitLPC®と併用することでより迅速な処理が可能な第三の予備加熱・予備酸化チャンバーが装備されます。冷却はガス焼入れまたはオイル焼入れの2つの方法があります。 高効率のオイルクエンチは、ワークへのオイルの浸透を確実にする撹拌システムを備えており、ワークの均一かつ迅速な冷却を実現します。ガスシステム、ポンプシステム、電源および冷却システムは、幅広い工業用熱処理を可能にする余裕のあるサイズです。 主な特長 / ...

温度: 200 °C - 1,350 °C

... ベクターは、焼入れ、焼戻し、焼きなまし、ロウ付け、低圧浸炭、焼結など、さまざまな熱処理プロセスや用途に使用できるシングルチャンバー真空炉です。 ベクターは、熱処理部品の高均一性、作業量の高均一性、バッチ処理における高速性を、電力とプロセスガスの低消費で実現する重要な機能を提供します。 ベクターの高圧ガスクエンチ炉は熱処理に理想的なソリューションです。ベクターは丸型グラファイトホットゾーンを備えた真空炉です。 オプション / 縦型 / グラファイトまたは金属ホットゾーン / 温度均一性の向上 / ...

... ベクターHVは、ガス冷却方式を採用した水平または垂直配置のシングルチャンバー式高真空炉で、多様な熱処理プロセスや用途に対応します。熱処理部品の高均一性、プロセスの高清浄度、作業量の高均一性、および電力とプロセスガスの低消費による効率的な処理を実現する重要な機能を提供します。 ベクターHV炉は丸型グラファイトまたは金属製のホットゾーンを装備し、プロセス純度および部品表面品質の点で要求の高い熱処理に理想的なソリューションです。 特徴 / 高真空処理 - 最大 10-8 mbar / 動作温度 - ...

温度: 20 °C - 200 °C
容量: 29 l
幅: 385 mm

... デジタル圧力制御により、迅速で穏やかな真空乾燥を実現します。スピードコントロール真空ポンプ（付属品）により、約70％のエネルギーを節約できます。 食品、化粧品、時計、書籍、プリント基板、射出成型金型など、メンマート真空オーブンVOのチャンバー内にある加熱・取り外し可能なサーモシェルフと搬送物が直接接触することで、熱を逃がすことなく、迅速かつ均一な温度制御が可能です。 このページでは、真空乾燥炉に関するすべての重要な技術データをご覧いただけます。さらに詳しい情報が必要な場合は、当社のカスタマーリレーションチームが喜んでお手伝いいたします。 圧力（真空） 真空範囲5～1100 ...

温度: 20 °C - 200 °C
容量: 49 l
幅: 385 mm

... デジタル圧力制御により、迅速で穏やかな真空乾燥を実現します。スピードコントロール真空ポンプ（付属品）により、約70％のエネルギーを節約できます。 食品、化粧品、時計、書籍、プリント基板、射出成型金型など、メンマート真空オーブンVOのチャンバー内にある加熱・取り外し可能なサーモシェルフと搬送物が直接接触することで、熱を逃がすことなく、迅速かつ均一な温度制御が可能です。 このページでは、真空乾燥炉に関するすべての重要な技術データをご覧いただけます。さらに詳しい情報が必要な場合は、当社のカスタマーリレーションチームが喜んでお手伝いいたします。 圧力（真空） 真空範囲5～1100 ...

温度: 20 °C - 200 °C
容量: 101 l
幅: 545 mm

... デジタル圧力制御により、迅速で穏やかな真空乾燥を実現します。スピードコントロール真空ポンプ（付属品）により、約70％のエネルギーを節約できます。 食品、化粧品、時計、書籍、プリント基板、射出成型金型など、メンマート真空オーブンVOのチャンバー内にある加熱・取り外し可能なサーモシェルフと搬送物が直接接触することで、熱を逃がすことなく、迅速かつ均一な温度制御が可能です。 さらに詳しい情報をご希望の場合は、弊社のカスタマーリレーションズチームが喜んでお手伝いいたします。 圧力（真空） 真空範囲5～1100 ...

温度: 9 °C - 220 °C
容量: 24 l - 119 l

... バインダーのVDシリーズ真空乾燥チャンバーは、正確な温度制御と穏やかな乾燥により、素晴らしい性能を発揮します。バインダーの特許技術であるエクスパンションラックは、熱伝達を最適化します。棚板はフレキシブルな配置が可能で、庫内の清掃も簡単です。 モデルVD 23｜不燃性溶剤用真空乾燥室 モデルVD 56｜不燃性溶剤用真空乾燥室 モデルVD 115｜不燃性溶剤用真空乾燥室 温度範囲周囲温度+9 °C ～ +220 °C 圧力と温度をデジタル表示するコントローラー プログラム制御による乾燥監視、プロセス終了時の自動換気機能付き 内部データロガー、USB経由で測定値をオープンフォーマットで読み出し可能 アルミ製拡張ラック1個、特注の配置が可能 不活性ガス接続 ユニバーサルアクセスポート ...

温度: 9 °C - 110 °C
容量: 24 l - 119 l

... BINDER VDLシリーズ安全真空乾燥室は、有機溶剤の乾燥において最大限の安全性を確保します。ATEX指令2014/34/EUに準拠した防爆仕様のユニットです：EX II 2/3/- G IIB T3 Gb/Gc/- X. モデルVDL 23｜可燃性溶剤用真空乾燥室 VDL56型｜可燃性溶剤用真空乾燥室 VDL115型｜可燃性溶剤用真空乾燥室 -温度範囲周囲温度+9 °C ～ +110 °C -ATEX適合装置EX II 2/3/- G IIB T3 Gb/Gc/- X -圧力と温度をグラフィック表示する直感的なタッチスクリーンコントローラー プログラム制御による乾燥監視、プロセス終了時の自動換気機能付き -内部データロガー、測定値はUSB経由でオープンフォーマットで読み出し可能 -100 ...

温度: 300 °C
容量: 1,000 l
幅: 1,000 mm

... リチウム イオン電池および電池の中心の真空のベーキングのために適した一定した温度のオーブン; オーブンに棒の部分か電池の中心を入れて下さい、マンマシン インターフェイスの必要なベーキング プロセス時間を置いて下さい、プロセス設定に従ってベーキング プロセスを始めるために開始ボタンを押して下さい それは装置が自動的に掃除機をかけることおよび窒素の詰物の仕事を行うことを要求されます。 精密高温オーブンの特徴。 1.140 °C.のテスト条件の下の連続的な途切れない作業時間≥1000h。 2.防爆型の圧力逃がし口を装備しており、圧力が急激に上昇すると自動的に圧力逃がし口が開きます。 3.煙炎センサーが煙の炎を検知し、箱の中の火災を消火する消火システムです。 4.キャビネットの防爆安全設計、防爆チェーン、ガラス防爆膜、アルミ珪酸塩の断熱材と断熱材を使用した断熱層を装備しています。 ...

... 製品の特徴： ● 鏡面仕上げのステンレススチールライナー、半円形デザイン（四隅）、お手入れ簡単、ラック調節可能。 ● 新しいP.I.D 論理処理コントローラ、高速かつ正確。 ● セラミックファイバー素材のシーリングストリップは、国家特許を取得し、高温の長期運転と長寿命を可能にします。 ● 7プログラム、プログラムごとに9ステップをプリセット可能、0 〜 5999 分のタイミング設定。 周期的なファン速度は調整可能です。 ● マルチセグメントプログラマブルコントローラ、データフォーカス、メニュー操作インタフェース、複雑な実験プロセスを簡素化し、真に自動制御を有効にする（オプションの選択）。 ...

... 製品名：空気乾燥炉DHG-9003（乾燥ボックスシリーズ） 製品の特徴 (1）先進的なレーザー、CNC加工設備製品を使用し、工業、鉱業企業、実験室、研究機関、乾燥、ベーキング、溶融ワックス、滅菌など。 (2）箱の内部はアルゴンアーク溶接によってステンレス鋼で作られ、箱は外観が美しく、斬新である高品質の鋼板で作られています。 (3）それは温度の偏差の保護およびデジタル表示装置にマイクロコンピューターP.I.Dの温度調節器を採用する。それはタイミング機能を備え、温度調整は正確、信頼できます (4)熱風循環システムは、高温で連続運転できるファンと適切なエアダクトで構成され、チャンバー内の温度均一性を向上させる。 (5) ...

温度: 0 °C - 450 °C
幅: 214 mm - 1,600 mm
高さ: 725 mm - 1,150 mm

... ECON熱分解炉は、環境に優しく、押出成形品やフィルター部品の洗浄のために開発されました。熱可塑性プラスチックと混合プラスチックは、真空下で洗浄剤を使用せず、可変の作業温度で除去されます。精密な温度設定により、敏感な部品も保護されます。迅速で費用対効果の高い、残留物のない洗浄を行うことで、長寿命化を実現します。 熱可塑性材料と混合プラスチックの穏やかな除去 ツールやフィルターパーツの寿命延長 環境安全、テュフ認証 簡単な操作と高い信頼性 オイル潤滑式真空ポンプのローメンテナンスタイプ 処理水を必要としない 活性炭フィルターの採用により排出ガスがない 炉の蓋を開けると、作業室は上方から充電されます。金型やスクリーン部品は、自由にアクセスできるドリップグレートに置くか、バスケットに入れ、洗浄に備えます。 洗浄サイクルの開始後、作業室の温度は徐々に上昇し、真空ポンプによって空気が排出されます。必要な作業温度1に達すると、ポリマー残渣は装置下部の回収トラフに流れ込みます。作業温度2に達すると、残渣は洗浄される部品上で焼却（熱分解＝無酸素分解）されます。 プロセス中に発生するガスは、特別に開発された「吸収体」によって回収・洗浄され、排気は直接環境に排出されます。 ...

温度: 200 °C
容量: 8, 25, 50, 130 l
幅: 200, 300, 405, 495 mm

... - 加熱棚を用いた1mbarまでの真空乾燥 - 真空乾燥のプロセスパラメータの決定 - 低温蒸発 - 乾燥曲線の決定 - 乾燥質量測定 - パイロット真空乾燥 ...

温度: 10 °C - 250 °C
幅: 490 mm - 2,300 mm
高さ: 450 mm - 2,100 mm

... 材質：SS304、SS316L、Ti、ハステロイ、PTFE、その他 アプリケーション：製薬、食品、光、化学および他の産業。 特徴 真空オーブンは、熱に敏感で、分解しやすく、酸化しやすい材料を乾燥するために特別に設計されています。不活性ガスは 不活性ガスを封入できるので、複雑な組成の原料でも短時間で乾燥できます。乾燥速度が速い。 温度が低いほど乾燥速度が速くなります。 乾燥前に殺菌処理ができます。そして乾燥プロセスで、あらゆる不純物は禁止されます。乾燥機は静的で、真空です、従って乾燥した材料の形成は損なわれません。 ➤20Pa ...

温度: 1,200 °C

... TIP 炉は金でも銀でも、100 g からキロバールまでのあらゆるサイズのインゴットを製造できるよう設計されています。インゴットは、真空チャンバー内に設置されたグラファイト製鋳型の中であらかじめ計量された粒を溶解し、凝固段階で適切に冷却することで得られます。 この機械は全自動で、さまざまなサイズのインゴット用に100以上のプログラムが用意されている。オペレーターはグラファイトモールドにあらかじめ加重された粒を保持ディスクにセットし、ローディングチャンバーを閉じてSTARTボタンを押すだけで自動サイクルが開始します。サイクルが終了すると、炉は市場刻印が可能な金または銀のバーを返送します。 生産性を向上させるため、システムは2つの装填室と1つの溶解室を備えています。この構成により、前のインゴットが冷却されている間に次のインゴットを溶解することができます。このオーバーラップした作業モードは、主に黒鉛鋳型の消費に関係するため、プロセスのランニングコストを削減するためにも重要である。黒鉛鋳型が冷えているほど、鋳型の寿命が延びます。 機械の心臓部は誘導発電機とそのコイルで、サイクル中の熱伝達を最大化するように設計されている。黒鉛鋳型をセットした後、空気圧ジャッキが部品を磁場の中心にスムーズに持ち上げ、溶解工程が始まります。 溶解と冷却のプロセスはすべて、真空と不活性ガスが金属とグラファイトを酸化から保護する密閉チャンバー内で行われます。ガスはアルゴンか窒素から選択できます。 ...

温度: 1,250, 1,600 °C
容量: 500 cm³ - 7,000 cm³

... シート・ロッド用真空鋳造機 このシリーズの真空鋳造炉は、保護雰囲気内で誘導加熱により溶解された原料を、真空中で銅、黒鉛、またはその他の素材のインゴット鋳型に流し込むことにより、シートやロッドのような高品質の半製品を製造するために使用されます。 溶解と注入の段階は、アルゴン、窒素、ヘリウムから選択できる不活性ガスによって保護されます。 誘導磁場は、金属がるつぼの中で溶解している間に働く磁場の攪拌効果により、合金の強力な均質化を保証するように設計されています。 機械は全自動で、あらゆる種類の合金に対応する無数のプログラムを備えています。 制御ロジックにはPCベースのデータ収集システムが搭載されており、鋳造サイクルごとにレポート機能を使ってプロセス変数をサンプリングします。データはグラフィック形式で表示したり、分析用に外部PCにエクスポートすることができます。 炉には酸素分析計を装備して、サイクル中の溶解室内の酸素ppmを制御・監視することができます。 ガスパージ手順 ...

... トップキャストTVMは、あらゆる種類の合金を高真空下で溶解・注湯するために設計された、密閉環境の誘導炉です。 特に、チタン、TiAl、Zr、ニッケルベースの合金のように反応性金属が関与する場合には TVM が最適です。 Co、Cr、MoおよびPGM合金は、TVMの典型的な使用例です。 説明 TVM炉は概念的に4つのサブシステムに分かれています： 1.真空溶解室とオプションの合金供給室 2.誘導発電機 3.傾斜コイルとるつぼアセンブリ 4.メタルまたはシェル鋳造金型 TOPCASTは、るつぼ容量、鋳型サイズ、真空レベルに関するカスタマイズされた仕様の下で、このクラスの炉を開発しています。 ...

温度: 10 °C - 200 °C

... 特徴 より正確で信頼性の高いLCDディスプレイを備えたマイクロプロセッサコントローラ。 ポリッシュ仕上げのステンレススチール製チャンバーは、耐久性があり、お手入れも簡単です。 強化された防弾二重ガラスドアは、オペレータの安全とチャンバーの明確な観察を保証します。 扉の締まり具合を調整できるシリコンシールを採用。チャンバー内の真空状態を維持するために、不活性ガス（膨張圧≦0.1MPa）でチャンバーを満たすことができます。 保管，加熱，試験，乾燥は，酸素のない環境または不活性雰囲気で行うことができます。酸化を引き起こすことはありません。 リークプロテクションを装備しています。 オプションです。 1.プログラム可能な温度コントローラー 2.プリンター内蔵 3.RS485コネクタ 4.不活性ガス導入バルブ ...

温度: 0 °C - 700 °C

... CFHSシリーズはEASYBLOWの通気炉シリーズを完成させ、制御された雰囲気で低温熱処理を行う可能性を提供します。中性または可燃性雰囲気中で最高700°Cまで運転可能なCFHS前面炉は、円筒形の密閉耐火ステンレス製マッフルを装備し、温度を均一化する強力なタービンを備えています。また、真空パージシステムや加速雰囲気冷却装置も装備できます。 ...

温度: 1,300, 1,100 °C
幅: 120 mm - 320 mm
高さ: 105 mm - 230 mm

... ファイバーヒーティングマッフル室を真空成形した高精度ラボ用電気炉です。精密なデジタルレギュレーターと優れた温度安定性を保証する発熱体、およびセラミック製の底板を装備しています。また、熱処理中に発生するガスやヒュームを除去するための換気孔と排気装置を装備することも可能です。科学研究所、教育機関、医療機関、工業用として、焼入れ、応力除去、焼きなまし、その他の熱処理に使用でき、最高温度は1100°Cまたは1300°Cです。多くのオプションがあります。 ...

温度: 0 °C - 1,100 °C
高さ: 2,300, 1,000, 1,350, 600 mm

... EASYPITポット炉は多様性に富んでいます。ガス密閉の耐火性ステンレス製ポットを装備し、複雑な熱処理や熱化学処理を制御された雰囲気の中で実施できます。雰囲気と処理物の交換を最適化するため、この炉には混合タービンが装備されています。対流と組み合わせた精密なマスター/スレーブ制御により、厳しいプロセス条件を満たすことができます。オプションで真空パージ装置も装備可能特殊サイズにも対応可能 ...

温度: 10 °C - 200 °C

... 21GVガリバーオリジナル真空オーブンは、化学、製薬、食品、光学、半導体、バイオテクノロジーなど、あらゆるアプリケーション、ラボ試験、研究に最適です。恒温、乾燥、脱ガス、メッキ、熱に敏感な材料の処理に最適です。 - 外装は粉体塗装、無溶剤。RAL 7035 - 内部チャンバーはAISI 304ステンレス製で角が丸く、洗浄が容易 - 高さ調節可能な脚 - チャンバー周囲に分散された抵抗 - 真空タップによる調整 - プラチナプローブPT 100、クラスA - 安全サーモスタット クラス3.1 - ...

温度: 450 °C - 2,500 °C
容量: 5 l - 18 l
幅: 170 mm - 250 mm

... MSE真空炉は、熱処理中に試料が空気に触れることがなく、最小限の変形で処理を完了できるように設計されています。また、お客様のご要望に応じて拡散ポンプやターボ分子ポンプを選択することができます。 真空炉の材質は、黒鉛、タングステン、モリブデン等、お客様のご要望に応じます。超高真空炉のご要望がございましたら、お気軽にお問い合わせください。 標準機能 プログラム可能な温度、時間、待機時間、調整可能な真空度、冷却水温度とプロセス詳細の表示、PLCコントローラー、タッチスクリーンを介したUSB接続機能によるデータ保存。 ...

温度: 2,800 °C
容量: 4 l - 12 l
幅: 140 mm - 200 mm

... 雰囲気制御式チャンバー炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結、溶解、エージング、熱試験、粉末合成、化学分解などの用途で使用され、目的の製品を得るために炉内に保護環境が要求されます。雰囲気制御式チャンバー炉は、アルゴン、窒素、真空、水素などの大気条件下での熱処理用に設計されています。加えて、水冷システムの圧力、炉内温度、炉内気圧、インテリジェントシステムなどがユーザーによって監視され、プロセスの安全性が確保されます。 調整可能な手動式ガス流量計、高圧リリーフシステム、過昇温アラーム、真空ポンプが標準装備されています。 雰囲気制御黒鉛炉は、水素雰囲気、より良い真空条件、金属試料に対応できます。 標準機能 ...

温度: 2,800, 1,800 °C
容量: 4 l - 45 l
幅: 140 mm - 360 mm

... 大気制御リフトボトム炉は、金属製品の製造、熱処理、焼結、溶解、エージング、熱試験、粉末合成など、保護環境が要求される場合に使用されます。このような要求から、MSEはアルゴン、窒素、真空、水素などの保護雰囲気下で熱処理を行う大気制御リフトボトム炉を設計・製作しています。 MSE Furnaceはまた、プロセスに応じて大気制御リフトボトム炉のための他の形状よりも安定した円筒形の雰囲気キャビンを使用しています。さらに、雰囲気制御炉は水冷式です。そのため、水冷システムの圧力、炉内温度、炉内気圧、インテリジェントシステムはユーザーによって監視され、プロセスの安全性を確保します。また、炉内は発熱体や高品質アルミナ耐火物で構成され、温度に応じて選択されます。リフトボトムにより、重量のある大型試料を容易に炉底に載せることができます。 調整可能な手動式ガス流量計、高圧リリーフシステム、過昇温警報装置、真空ポンプが標準装備されています。水素雰囲気についてはお問い合わせください。 標準装備 ...

... AMS 2750ユニットは、エルメサーム社が開発した航空炉です。 これは、金属の熱処理を含む用途に対応するために特別に設計されています。 また、複合部品の重合にも炉を利用できます。 さらに、ユニットはクラス1の最も厳しい温度均一性を持つことが保証されています 700° C 主に、このタイプのオーブンは、機器サプライヤーやメーカーなどの航空宇宙産業のお客様のために作られています。 ...

温度: 1,200 °C - 1,300 °C

... STFシリーズ管状炉は、実験室での実験が水平または垂直に行われる場合に使用可能な管状炉です。 標準的なSTFシリーズの炉は1200℃から1300℃の範囲をカバーしており、プロセスには線状発熱体のみを使用します。 STFシリーズでは、1300℃までの加熱が可能で、長さの異なる複数のゾーンでの運用も可能です。 STFシリーズは、使用するリアクターを迅速かつ容易に交換することで、完璧な温度均一性を確保します。 システムの特徴 リアクターはシステムに含まれていません カスタマイズ可能なコントローラー 高品質のファイバー素材 溶融亜鉛メッキ、エポキシ塗装の構造 ソリッド・ステート・リレーによるシステム運用 高レベルの温度均一性 電気的保護 長寿命の高品質発熱体 直感的なコントローラーのユーザーインターフェース オプション機能 熱保護のための温度超過リミッター 熱電対を追加してチューブ内温度を表示 ガス出口のチェックバルブ 運転時のガス供給と混合システム 代替作業管 ガスおよび水冷式の真空フランジ 垂直方向にも角度方向にも使用できるユニバーサルデザイン ソフトウェア付きデータロガー RS422/485通信 ...

温度: 1,500, 1,100 °C
幅: 400, 650, 555, 550 cm
高さ: 510, 810, 710 cm

... ASPシリーズ管状炉は、実験室での横型・縦型実験に対応した分割型炉で、多ゾーンのオプションがあります。 炉の開閉が可能なため、オペレーターは別のチューブやリアクター、あるいは他のインライン加熱材料を炉に取り入れることができます。 ゾーン温度の設定と安定した温度環境は、多くの可能なプロセスへの適合を可能にします。 作業管の交換が容易で、さらに標準装備のオプションにより、長さの異なる複数のゾーンを使用することができます。 システムの特徴 C610の標準作業管 分離型または統合型の制御装置 ...

温度: 1,700, 1,800 °C

... 高温用PTFシリーズ管状炉は、実験室での実験が水平または垂直に行われる場合に使用できる管状炉です。 標準的な高温用PTFシリーズ炉は1600°Cから1800°Cの範囲をカバーし、プロセス用に垂直方向に取り付けられた二珪化モリブデン発熱体を使用しています。エレメントが垂直に取り付けられているため、交換が容易です。 安定した温度環境と、炉を真空に変更できるオプションにより、この炉は多くの可能なプロセスに適しています。 システムの特徴 C610およびC799の標準作業管 分離型または統合型の制御装置 ...