酸化炉 RLA-3100

焼きなましベルガス

4～8インチウェーハ対応、真空(LP)環境・N2ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。 上下クロスランプ構造（ハロゲン）と均熱化装置の採用で面内温度均一性が向上。 200℃/秒の高速昇温、4～8インチウェーハ対応、最大50枚処理が可能なランプアニール装置です。ハロゲンランプによる上下クロスランプ構造の採用で優れた面内温度均一性を実現しています。耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。