焼きなまし炉 VF-5300

拡散酸化熱処理

8インチウェーハ対応、超高温処理が可能なストッカー内蔵ラージバッチ縦型炉。 酸化・拡散・LPCVD、活性化アニールなど多品種処理が可能な半導体熱処理装置。 8インチウェーハ最大150枚、最大20個のカセットストッカーを備え、連続バッチ処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータの採用で低温～超高温まで優れた温度特性を発揮します。低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン（Poly Si)などのLPCVDから酸化拡散まで幅広いプロセスに対応します。また、二珪化モリブデン（MoSi2)ヒータを採用することにより、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化など超高温プロセスにも対応します。