酸化炉 VF-5100
キャビネット電動制御空気下

酸化炉
酸化炉
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特徴

機能
酸化
形状
キャビネット
熱源
電動
雰囲気
制御空気下
その他の特徴
エレクトロニクス産業用

詳細

4~8インチ対応、超高温処理が可能なラージバッチ拡散・LPCVD縦型炉。 生産ラインにあわせたフレキシブルな装置構成で多品種処理に対応。 パワーデバイス製造に最適。 4インチ~8インチサイズのウェーハに対応し、処理枚数も50~150枚処理まで選択が可能な生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン(Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理はもちろん、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化や活性化アニールなど超高温プロセスにも対応します。
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。