焼きなまし炉 VF-5100

拡散酸化キャビネット

4～8インチ対応、超高温処理が可能なラージバッチ拡散・LPCVD縦型炉。 生産ラインにあわせたフレキシブルな装置構成で多品種処理に対応。 パワーデバイス製造に最適。 4インチ～8インチサイズのウェーハに対応し、処理枚数も50～150枚処理まで選択が可能な生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン（MoSi2）ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン（Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理はもちろん、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化や活性化アニールなど超高温プロセスにも対応します。